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具有全环式接触件的FinFET
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410281068.1
申请日
:
2014-06-20
公开(公告)号
:
CN104979396A
公开(公告)日
:
2015-10-14
发明(设计)人
:
黄玉莲
李东颖
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L2906
H01L29423
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;孙征
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-02-16
授权
授权
2015-10-14
公开
公开
2015-11-18
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101633314794 IPC(主分类):H01L 29/78 专利申请号:2014102810681 申请日:20140620
共 50 条
[1]
具有低源极/漏极接触电阻的FinFET
[P].
黄玉莲
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄玉莲
;
李东颖
论文数:
0
引用数:
0
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0
李东颖
.
中国专利
:CN104952924B
,2015-09-30
[2]
在介电栅极上方具有接触件的FinFET器件结构和方法
[P].
陈芳
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈芳
;
廖忠志
论文数:
0
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0
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0
廖忠志
.
中国专利
:CN110556374A
,2019-12-10
[3]
具有子鳍电接触的相邻结构的环栅集成电路结构
[P].
B·古哈
论文数:
0
引用数:
0
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0
B·古哈
;
W·徐
论文数:
0
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0
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0
W·徐
;
林崇勋
论文数:
0
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0
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0
林崇勋
;
K·波亚
论文数:
0
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0
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0
K·波亚
;
O·戈隆茨卡
论文数:
0
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0
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0
O·戈隆茨卡
;
T·加尼
论文数:
0
引用数:
0
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0
T·加尼
.
中国专利
:CN112992897A
,2021-06-18
[4]
具有可焊接环接触件的半导体装置
[P].
李相道
论文数:
0
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0
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0
李相道
;
玛吉·T·里奥斯
论文数:
0
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0
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0
玛吉·T·里奥斯
.
中国专利
:CN101405861A
,2009-04-08
[5]
FinFET接触结构的制造方法
[P].
韩秋华
论文数:
0
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0
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0
韩秋华
;
三重野文健
论文数:
0
引用数:
0
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0
三重野文健
.
中国专利
:CN103137457A
,2013-06-05
[6]
具有不全接触通孔栈的密封环结构
[P].
宁先捷
论文数:
0
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0
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0
宁先捷
.
中国专利
:CN1988155A
,2007-06-27
[7]
堆叠的全环栅FinFET及其形成方法
[P].
江国诚
论文数:
0
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0
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0
江国诚
;
刘继文
论文数:
0
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0
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0
刘继文
;
梁英强
论文数:
0
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0
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0
梁英强
.
中国专利
:CN105895694B
,2016-08-24
[8]
具有减少的寄生电容量的FinFET及其制造方法
[P].
黄玉莲
论文数:
0
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0
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0
黄玉莲
;
吕昆谚
论文数:
0
引用数:
0
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0
吕昆谚
.
中国专利
:CN103985711B
,2014-08-13
[9]
具有径向偏移接触指的电镀接触环
[P].
格雷戈里·J·威尔逊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
格雷戈里·J·威尔逊
.
中国专利
:CN108701643B
,2018-10-23
[10]
具有全环栅器件的自对准栅极端盖(SAGE)架构
[P].
B.古哈
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
英特尔公司
英特尔公司
B.古哈
;
W.徐
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
英特尔公司
英特尔公司
W.徐
;
L.P.古勒
论文数:
0
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0
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0
机构:
英特尔公司
英特尔公司
L.P.古勒
;
D.M.克鲁姆
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
英特尔公司
英特尔公司
D.M.克鲁姆
;
T.加尼
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
英特尔公司
英特尔公司
T.加尼
.
美国专利
:CN117457652A
,2024-01-26
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