光刻胶剥除室和在基片上蚀刻光刻胶的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780026272.7

申请日：

2007-04-25

公开(公告)号：

CN101490810B

公开(公告)日：

2009-07-22

发明(设计)人：

罗伯特·P·切比雅罗斯瓦夫·W·维尼凯克艾伦·J·米勒格拉迪斯·S·洛

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L2126

IPC分类号：

H01L2142 B44C122

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

周文强;李献忠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-04-13	授权	授权
2009-07-22	公开	公开
2009-09-16	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[2]

光刻胶去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

刘骁兵 ;

刘志强 .

中国专利 :CN103972055B ,2014-08-06

[3]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[4]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[5]

光刻胶添加剂及光刻胶组合物 [P].

李青松 ;

刘永祥 ;

杨鹏 ;

韩红彦 ;

焦成成 .

中国专利 :CN119591780A ,2025-03-11

[6]

光刻胶和光刻胶图形的优化方法 [P].

林益世 ;

黄宜斌 .

中国专利 :CN102262357A ,2011-11-30

[7]

一种光刻胶再生方法与光刻胶 [P].

陈兵 ;

高裕弟 ;

李勇 ;

李玉解 ;

王勇波 .

中国专利 :CN120122390A ,2025-06-10

[8]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[9]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[10]

光刻胶除去装置和光刻胶除去方法 [P].

远藤民夫 ;

佐藤淳 ;

天野泰彦 ;

田村哲司 .

中国专利 :CN1653596A ,2005-08-10

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