监测等离子体工艺制程的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610487977.X

申请日：

2016-06-28

公开(公告)号：

CN107546141B

公开(公告)日：

2018-01-05

发明(设计)人：

张洁黄智林

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

朱成之

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-05	公开	公开
2018-01-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20160628
2020-12-04	授权	授权
2019-04-09	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/66 变更事项:申请人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

共 50 条

[1]

监测等离子体工艺制程的等离子体处理装置和方法 [P].

张洁 ;

刘身健 .

中国专利 :CN107546094B ,2018-01-05

[2]

监测等离子体工艺制程的装置和方法 [P].

黄智林 ;

杨平 .

中国专利 :CN106876238B ,2017-06-20

[3]

监测等离子体工艺制程的装置和方法 [P].

黄智林 ;

王红军 .

中国专利 :CN106876236A ,2017-06-20

[4]

等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置 [P].

松本直树 ;

山泽阳平 ;

輿水地盐 ;

松土龙夫 ;

濑川澄江 .

中国专利 :CN100520382C ,2004-10-27

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

中山博之 ;

增泽健二 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26

[6]

原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法 [P].

陆祺峰 ;

贺晓龙 ;

沈唐尧 ;

崔靖 ;

殷海玮 ;

方源 .

中国专利 :CN115831796B ,2025-06-24

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理工艺的监测方法 [P].

李俊良 .

中国专利 :CN105405735A ,2016-03-16

[8]

等离子体工艺制程监测方法及其监测系统 [P].

陆祺峰 ;

沈唐尧 ;

贺晓龙 ;

崔靖 ;

殷海玮 ;

方源 .

中国专利 :CN115799026B ,2025-07-11

[9]

等离子体处理方法和等离子体装置 [P].

友安昌幸 .

中国专利 :CN100401481C ,2005-07-20

[10]

等离子体监测方法和等离子体监测装置 [P].

松本直树 ;

山泽阳平 ;

輿水地盐 .

中国专利 :CN101587156B ,2009-11-25

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