等离子体处理装置及等离子体处理工艺的监测方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410417654.4

申请日：

2014-08-22

公开(公告)号：

CN105405735A

公开(公告)日：

2016-03-16

发明(设计)人：

李俊良

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L21687

代理机构：

上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人：

吴世华;陈慧弘

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-25	授权	授权
2016-04-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101655084968 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2014104176544 申请日:20140822
2019-04-05	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
2016-03-16	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

冈山信幸 ;

松本直树 .

中国专利 :CN102217044A ,2011-10-12

[2]

等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置 [P].

松本直树 ;

山泽阳平 ;

輿水地盐 ;

松土龙夫 ;

濑川澄江 .

中国专利 :CN100520382C ,2004-10-27

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山岸幸司 ;

白泽大辅 .

中国专利 :CN112992643A ,2021-06-18

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

日本专利 :CN112786425B ,2024-09-20

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN112786425A ,2021-05-11

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山岸幸司 ;

白泽大辅 .

日本专利 :CN112992643B ,2025-10-21

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山本直子 ;

山本達志 ;

平山昌树 ;

大見忠弘 .

中国专利 :CN1236657C ,2003-10-22

[8]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[9]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[10]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

有田洁 ;

岩井哲博 ;

寺山纯一 .

中国专利 :CN1516890A ,2004-07-28

← 1 2 3 4 5 →