用于CMP垫调节的方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210047902.1

申请日：

2012-02-27

公开(公告)号：

CN102975120A

公开(公告)日：

2013-03-20

发明(设计)人：

叶修铭巫丰印

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

B24B53017

IPC分类号：

B24B3704

代理机构：

北京德恒律师事务所 11306

代理人：

陆鑫;房岭梅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-04-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101438518726 IPC(主分类):B24B 53/017 专利申请号:2012100479021 申请日:20120227
2016-04-06	授权	授权
2013-03-20	公开	公开

共 50 条

[1]

CMP垫调整器及用于制造CMP垫调整器的方法 [P].

李世珖 ;

金渊澈 ;

李周翰 ;

崔在光 ;

夫在弼 .

中国专利 :CN103534790B ,2014-01-22

[2]

CMP抛光垫调节器 [P].

R·K·辛格 ;

D·辛格 .

中国专利 :CN111655428B ,2020-09-11

[3]

用于CMP温度控制的设备和方法 [P].

S·库玛 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

陈辉 ;

张寿松 .

中国专利 :CN115461193A ,2022-12-09

[4]

用于改善CMP性能的工作台表面改性和高性能垫调节 [P].

C·H-G·李 ;

A·N·伊耶 ;

H·K·特兰 ;

G·张 .

中国专利 :CN114274042A ,2022-04-05

[5]

用于CMP温度控制的装置及方法 [P].

S-S·张 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

美国专利 :CN118636051A ,2024-09-13

[6]

用于CMP温度控制的装置及方法 [P].

S-S·张 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

中国专利 :CN111836700A ,2020-10-27

[7]

用于CMP温度控制的装置及方法 [P].

S-S·张 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

美国专利 :CN111836700B ,2024-07-09

[8]

CMP调节盘以及用于制造CMP调节盘的方法 [P].

文镕湜 ;

郭庆国 ;

朴钟国 ;

宋银花 ;

全映泰 .

韩国专利 :CN119489397A ,2025-02-21

[9]

用于CMP垫的聚氨酯组合物及其制造方法 [P].

Y·张 ;

D·黄 ;

L·孙 .

中国专利 :CN102574969A ,2012-07-11

[10]

具有均匀窗口的CMP抛光垫 [P].

M·E·古兹曼 ;

N·A·瓦斯克斯 ;

M·R·加丁科 ;

M·E·米尔斯 .

美国专利 :CN113829232B ,2024-07-12

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