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衬底处理装置用气体供给喷嘴

被引：0
专利类型：
外观设计
申请号：
CN201530051637.9
申请日：
2015-02-28
公开(公告)号：
CN303532538S
公开(公告)日：
2015-12-30
发明(设计)人：
森田慎也 三宅正浩 寺崎昌人
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
1599
IPC分类号：
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
陈伟;王娟娟
法律状态：
专利申请权、专利权的转移
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2018-12-14 专利申请权、专利权的转移 专利权的转移 主分类号:15-99 登记生效日:20181127 变更事项:专利权人 变更前权利人:株式会社日立国际电气 变更后权利人:株式会社国际电气 变更事项:地址 变更前权利人:日本东京都 变更后权利人:日本东京都
2015-12-30 授权 授权
共 50 条
[1]
衬底处理装置用气体供给喷嘴 [P]. 
吉田秀成 ;
佐佐木隆史 ;
西堂周平 .
中国专利 :CN304635968S ,2018-05-18
[2]
衬底处理装置用气体供给喷嘴 [P]. 
森田慎也 ;
林孝德 ;
清水直治 ;
嵨信人 .
中国专利 :CN302760851S ,2014-03-12
[3]
衬底处理装置用气体导入管 [P]. 
森田慎也 ;
林孝德 ;
清水直治 ;
嵨信人 .
中国专利 :CN302760852S ,2014-03-12
[4]
衬底处理装置、气体导入轴以及气体供给板 [P]. 
西谷英辅 ;
丰田一行 .
中国专利 :CN105448637A ,2016-03-30
[5]
基板处理装置用气体供给喷嘴 [P]. 
竹下光德 ;
西堂周平 ;
吉田秀成 ;
冈岛优作 .
中国专利 :CN305629012S ,2020-02-25
[6]
气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
高木康祐 ;
笹岛亮太 ;
小仓慎太郎 ;
赤江尚德 ;
山腰莉早 ;
藤野敏树 ;
寺崎昌人 ;
南政克 .
中国专利 :CN111261503A ,2020-06-09
[7]
气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
高木康祐 ;
笹岛亮太 ;
小仓慎太郎 ;
赤江尚德 ;
山腰莉早 ;
藤野敏树 ;
寺崎昌人 ;
南政克 .
中国专利 :CN106356289A ,2017-01-25
[8]
气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
高木康祐 ;
笹岛亮太 ;
小仓慎太郎 ;
赤江尚德 ;
山腰莉早 ;
藤野敏树 ;
寺崎昌人 ;
南政克 .
中国专利 :CN110534461A ,2019-12-03
[9]
气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
高木康祐 ;
笹岛亮太 ;
小仓慎太郎 ;
赤江尚德 ;
山腰莉早 ;
藤野敏树 ;
寺崎昌人 ;
南政克 .
中国专利 :CN111243994A ,2020-06-05
[10]
气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P]. 
高木康祐 ;
笹岛亮太 ;
小仓慎太郎 ;
赤江尚德 ;
山腰莉早 ;
藤野敏树 ;
寺崎昌人 ;
南政克 .
中国专利 :CN109943827B ,2019-06-28
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