衬底处理装置用气体供给喷嘴

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN201730488290.3

申请日：

2017-10-13

公开(公告)号：

CN304635968S

公开(公告)日：

2018-05-18

发明(设计)人：

吉田秀成佐佐木隆史西堂周平

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

2301

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

陈伟;王娟娟

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-14	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移主分类号:23-01 登记生效日:20181127 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社日立国际电气变更后权利人:株式会社国际电气变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都
2018-05-18	授权	授权

共 50 条

[1]

衬底处理装置用气体供给喷嘴 [P].

森田慎也 ;

林孝德 ;

清水直治 ;

嵨信人 .

中国专利 :CN302760851S ,2014-03-12

[2]

衬底处理装置用气体供给喷嘴 [P].

森田慎也 ;

三宅正浩 ;

寺崎昌人 .

中国专利 :CN303532538S ,2015-12-30

[3]

气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P].

高木康祐 ;

笹岛亮太 ;

小仓慎太郎 ;

赤江尚德 ;

山腰莉早 ;

藤野敏树 ;

寺崎昌人 ;

南政克 .

中国专利 :CN111261503A ,2020-06-09

[4]

气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P].

高木康祐 ;

笹岛亮太 ;

小仓慎太郎 ;

赤江尚德 ;

山腰莉早 ;

藤野敏树 ;

寺崎昌人 ;

南政克 .

中国专利 :CN106356289A ,2017-01-25

[5]

气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P].

高木康祐 ;

笹岛亮太 ;

小仓慎太郎 ;

赤江尚德 ;

山腰莉早 ;

藤野敏树 ;

寺崎昌人 ;

南政克 .

中国专利 :CN110534461A ,2019-12-03

[6]

气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P].

高木康祐 ;

笹岛亮太 ;

小仓慎太郎 ;

赤江尚德 ;

山腰莉早 ;

藤野敏树 ;

寺崎昌人 ;

南政克 .

中国专利 :CN111243994A ,2020-06-05

[7]

气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P].

高木康祐 ;

笹岛亮太 ;

小仓慎太郎 ;

赤江尚德 ;

山腰莉早 ;

藤野敏树 ;

寺崎昌人 ;

南政克 .

中国专利 :CN109943827B ,2019-06-28

[8]

气体供给喷嘴、衬底处理装置及半导体器件的制造方法 [P].

高木康祐 ;

笹岛亮太 ;

小仓慎太郎 ;

赤江尚德 ;

山腰莉早 ;

藤野敏树 ;

寺崎昌人 ;

南政克 .

日本专利 :CN111261503B ,2024-04-16

[9]

衬底处理装置用气体导入管 [P].

森田慎也 ;

林孝德 ;

清水直治 ;

嵨信人 .

中国专利 :CN302760852S ,2014-03-12

[10]

衬底处理装置、气体导入轴以及气体供给板 [P].

西谷英辅 ;

丰田一行 .

中国专利 :CN105448637A ,2016-03-30

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