共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
基板处理装置用气体供给喷嘴
被引：0
专利类型：
外观设计
申请号：
CN201930515236.2
申请日：
2019-09-19
公开(公告)号：
CN305629012S
公开(公告)日：
2020-02-25
发明(设计)人：
竹下光德
西堂周平
吉田秀成
冈岛优作
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
2301
IPC分类号：
代理机构：
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人：
丁文蕴;许凯
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-02-25 | 授权 | 授权 |