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基板处理装置用气体供给喷管
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN201830750750.X
申请日
:
2018-12-24
公开(公告)号
:
CN305241274S
公开(公告)日
:
2019-07-02
发明(设计)人
:
齐木浩二
津里诚
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
2301
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
陈伟;刘伟志
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-07-02
授权
授权
共 50 条
[1]
基板处理装置用气体供给喷管
[P].
冈嶋优作
论文数:
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冈嶋优作
;
加贺谷彻
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加贺谷彻
;
平松宏朗
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平松宏朗
;
江端慎也
论文数:
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江端慎也
.
中国专利
:CN304839985S
,2018-10-02
[2]
基板处理装置用气体供给喷管
[P].
冈嶋优作
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冈嶋优作
;
加贺谷彻
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加贺谷彻
;
平松宏朗
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平松宏朗
;
江端慎也
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江端慎也
.
中国专利
:CN304849729S
,2018-10-12
[3]
基板处理装置用气体供给喷管
[P].
藤野敏树
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藤野敏树
;
藤井优磨
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藤井优磨
;
野野村一树
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野野村一树
;
马场美德
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马场美德
;
竹林雄二
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竹林雄二
;
寿崎健一
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寿崎健一
.
中国专利
:CN303980052S
,2016-12-21
[4]
基板处理装置用气体供给喷管
[P].
藤野敏树
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藤野敏树
;
高木康祐
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高木康祐
;
笹岛亮太
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笹岛亮太
.
中国专利
:CN303969774S
,2016-12-14
[5]
基板处理装置用气体供给喷管
[P].
三部诚
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机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
三部诚
;
藤井悟史
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机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
藤井悟史
.
日本专利
:CN309486402S
,2025-09-09
[6]
基板处理装置用气体供给喷嘴
[P].
竹下光德
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竹下光德
;
西堂周平
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西堂周平
;
吉田秀成
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吉田秀成
;
冈岛优作
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冈岛优作
.
中国专利
:CN305629012S
,2020-02-25
[7]
处理液供给喷管和基板处理装置
[P].
岛井太
论文数:
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岛井太
.
中国专利
:CN1919470B
,2007-02-28
[8]
气体供给装置、基板处理装置以及气体供给方法
[P].
水泽兼悦
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水泽兼悦
.
中国专利
:CN100514552C
,2007-08-08
[9]
气体供给装置、基板处理装置和气体供给方法
[P].
水泽兼悦
论文数:
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0
水泽兼悦
.
中国专利
:CN101017771A
,2007-08-15
[10]
气体供给头、气体供给机构和基板处理装置
[P].
田中诚治
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田中诚治
;
里吉务
论文数:
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0
里吉务
.
中国专利
:CN104178748A
,2014-12-03
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