基板处理装置用气体供给喷管

被引:0
专利类型
外观设计
申请号
CN201830750750.X
申请日
2018-12-24
公开(公告)号
CN305241274S
公开(公告)日
2019-07-02
发明(设计)人
齐木浩二 津里诚
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
2301
IPC分类号
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
陈伟;刘伟志
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置用气体供给喷管 [P]. 
冈嶋优作 ;
加贺谷彻 ;
平松宏朗 ;
江端慎也 .
中国专利 :CN304839985S ,2018-10-02
[2]
基板处理装置用气体供给喷管 [P]. 
冈嶋优作 ;
加贺谷彻 ;
平松宏朗 ;
江端慎也 .
中国专利 :CN304849729S ,2018-10-12
[3]
基板处理装置用气体供给喷管 [P]. 
藤野敏树 ;
藤井优磨 ;
野野村一树 ;
马场美德 ;
竹林雄二 ;
寿崎健一 .
中国专利 :CN303980052S ,2016-12-21
[4]
基板处理装置用气体供给喷管 [P]. 
藤野敏树 ;
高木康祐 ;
笹岛亮太 .
中国专利 :CN303969774S ,2016-12-14
[5]
基板处理装置用气体供给喷管 [P]. 
三部诚 ;
藤井悟史 .
日本专利 :CN309486402S ,2025-09-09
[6]
基板处理装置用气体供给喷嘴 [P]. 
竹下光德 ;
西堂周平 ;
吉田秀成 ;
冈岛优作 .
中国专利 :CN305629012S ,2020-02-25
[7]
处理液供给喷管和基板处理装置 [P]. 
岛井太 .
中国专利 :CN1919470B ,2007-02-28
[8]
气体供给装置、基板处理装置以及气体供给方法 [P]. 
水泽兼悦 .
中国专利 :CN100514552C ,2007-08-08
[9]
气体供给装置、基板处理装置和气体供给方法 [P]. 
水泽兼悦 .
中国专利 :CN101017771A ,2007-08-15
[10]
气体供给头、气体供给机构和基板处理装置 [P]. 
田中诚治 ;
里吉务 .
中国专利 :CN104178748A ,2014-12-03