半导体器件及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310745634.5
申请日
2013-12-30
公开(公告)号
CN104752422A
公开(公告)日
2015-07-01
发明(设计)人
宁先捷
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2706
IPC分类号
H01L21784
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN104701163B ,2015-06-10
[2]
栅极结构的形成方法、半导体器件的形成方法以及半导体器件 [P]. 
杨红 ;
马雪丽 ;
王文武 ;
韩锴 ;
王晓磊 ;
殷华湘 ;
闫江 .
中国专利 :CN103545191A ,2014-01-29
[3]
栅极结构的形成方法、半导体器件的形成方法以及半导体器件 [P]. 
杨红 ;
马雪丽 ;
王文武 ;
韩锴 ;
王晓磊 ;
殷华湘 ;
闫江 .
中国专利 :CN103545190A ,2014-01-29
[4]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103426755A ,2013-12-04
[5]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
赵杰 .
中国专利 :CN106469652B ,2017-03-01
[6]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN108666210A ,2018-10-16
[7]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
徐建华 .
中国专利 :CN105304565B ,2016-02-03
[8]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN110707040A ,2020-01-17
[9]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN110634742A ,2019-12-31
[10]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN104701149A ,2015-06-10