用于原子层沉积装置的双层门体组件

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201821622977.7
申请日
2018-09-30
公开(公告)号
CN208883987U
公开(公告)日
2019-05-21
发明(设计)人
李丙科 陈庆敏
申请人
申请人地址
214000 江苏省无锡市新吴区鸿山街道锡协路208-10号
IPC主分类号
C23C16455
IPC分类号
代理机构
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260
代理人
王闯;葛莉华
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
原子层沉积装置 [P]. 
李丙科 ;
陈庆敏 .
中国专利 :CN209128536U ,2019-07-19
[2]
原子层沉积装置 [P]. 
李丙科 ;
陈庆敏 .
中国专利 :CN109023306A ,2018-12-18
[3]
原子层沉积装置 [P]. 
张洪国 ;
唐继远 ;
汤晨宇 ;
徐冉 ;
夏益伟 ;
周同亮 .
中国专利 :CN220503191U ,2024-02-20
[4]
用于原子层沉积工艺的进气装置及原子层沉积装置 [P]. 
魏景峰 ;
荣延栋 ;
傅新宇 .
中国专利 :CN209292476U ,2019-08-23
[5]
原子层沉积装置及原子层沉积系统 [P]. 
曹生贤 .
中国专利 :CN106030848B ,2016-10-12
[6]
用于原子层沉积的装置 [P]. 
P·索伊尼宁 ;
M·索德兰德 ;
P·蒂莫宁 .
中国专利 :CN108495950A ,2018-09-04
[7]
原子层沉积装置 [P]. 
李哲峰 ;
张光海 .
中国专利 :CN212335292U ,2021-01-12
[8]
原子层沉积装置 [P]. 
杨士逸 .
中国专利 :CN221398037U ,2024-07-23
[9]
原子层沉积装置 [P]. 
吉田武史 ;
石塚勇史 .
中国专利 :CN203159709U ,2013-08-28
[10]
原子层沉积装置 [P]. 
夏洋 .
中国专利 :CN208649461U ,2019-03-26