半导体批处理生产设备及半导体批处理系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710928112.7
申请日
2017-10-09
公开(公告)号
CN109637946A
公开(公告)日
2019-04-16
发明(设计)人
不公告发明人
申请人
申请人地址
230601 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
余明伟
法律状态
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体生产设备尾气处理系统 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN209213884U ,2019-08-06
[2]
半导体处理装置和半导体处理系统 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN116844993B ,2025-07-15
[3]
半导体处理装置和半导体处理系统 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN120497194A ,2025-08-15
[4]
半导体处理系统和半导体处理方法 [P]. 
曹志明 ;
赖佶甫 .
中国专利 :CN119965081A ,2025-05-09
[5]
半导体处理系统及其半导体处理方法 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN119920719A ,2025-05-02
[6]
批处理系统 [P]. 
S·厄派德海厄雅 ;
水野英人 .
中国专利 :CN101821728A ,2010-09-01
[7]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘处理方法 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN114188265B ,2025-06-17
[8]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘处理方法 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN114188265A ,2022-03-15
[9]
半导体处理系统 [P]. 
许嘉毓 ;
野沢俊久 ;
关帅 ;
邱大益 .
中国专利 :CN117512561A ,2024-02-06
[10]
半导体元件处理系统、半导体元件处理装置及半导体元件处理方法 [P]. 
刘晏宏 ;
陈鸿文 ;
陈哲夫 .
中国专利 :CN110098136B ,2019-08-06