用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480042235.5

申请日：

2014-06-17

公开(公告)号：

CN105408817A

公开(公告)日：

2016-03-16

发明(设计)人：

H-K·尼恩惠斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101672915909 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014800422355 申请日:20140617
2016-03-16	公开	公开
2018-11-02	授权	授权

共 50 条

[41]

具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备 [P].

V·M·克里夫特逊 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

E·D·克洛普 ;

K·N·克什烈夫 ;

Y·V·斯戴尼克夫 ;

O·雅克什夫 .

中国专利 :CN102681362A ,2012-09-19

[42]

具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备 [P].

V·M·克里夫特逊 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

E·D·克洛普 ;

K·N·克什烈夫 ;

Y·V·斯戴尼克夫 ;

O·雅克什夫 .

中国专利 :CN101606104A ,2009-12-16

[43]

辐射源及其控制方法、光刻设备以及器件制造方法 [P].

埃瑞克·派卓斯·伯曼 ;

西拉特·伊什特万·希萨 .

中国专利 :CN102890424A ,2013-01-23

[44]

污染防止系统、光刻设备、辐射源以及制造器件的方法 [P].

E·J·布斯 ;

C·A·霍根达姆 ;

A·M·斯卓克肯 ;

A·C·瓦辛克 ;

E·T·M·白吉拉尔特 ;

P·P·A·A·布洛姆 .

中国专利 :CN101715568B ,2010-05-26

[45]

包括液滴加速器的EUV辐射源以及光刻设备 [P].

W·麦斯特姆 ;

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布耳曼 .

中国专利 :CN102696283A ,2012-09-26

[46]

一种用于控制辐射源功率的系统和方法 [P].

吴欣延 .

中国专利 :CN101310333A ,2008-11-19

[47]

用于使用点辐射源进行流体的细菌消毒的系统和方法 [P].

爱德华·布里顿·斯托克斯 ;

珍妮弗·戈德温·帕甘 ;

托马斯·安德鲁·施梅达克 .

中国专利 :CN102281933A ,2011-12-14

[48]

用于使用点辐射源进行流体的细菌消毒的系统和方法 [P].

爱德华·布里顿·斯托克斯 ;

珍妮弗·戈德温·帕甘 ;

托马斯·安德鲁·施梅达克 .

中国专利 :CN105963731A ,2016-09-28

[49]

光刻设备、检查系统和实现具有公共辐射源的并行传感器头的方法 [P].

A·J·A·贝克曼 ;

H·P·M·派勒曼斯 .

:CN120677440A ,2025-09-19

[50]

应用远紫外区辐射源和在该区具有宽光谱带的多层镜的光刻设备 [P].

D·巴博内奥 ;

R·马莫雷特 ;

L·博内 .

中国专利 :CN1222829C ,2003-07-30

← 1 2 3 4 5 →