用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480042235.5

申请日：

2014-06-17

公开(公告)号：

CN105408817A

公开(公告)日：

2016-03-16

发明(设计)人：

H-K·尼恩惠斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101672915909 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014800422355 申请日:20140617
2016-03-16	公开	公开
2018-11-02	授权	授权

共 50 条

[21]

碎片减少系统、辐射源和光刻设备 [P].

M·瑞鹏 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

R·J·赫尔特门斯 .

中国专利 :CN109478026B ,2019-03-15

[22]

辐射源测试 [P].

R·A·布尔德特 ;

T·P·达菲 .

中国专利 :CN114631061A ,2022-06-14

[23]

辐射源测试 [P].

R·A·布尔德特 ;

T·P·达菲 .

美国专利 :CN114631061B ,2025-09-12

[24]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

R·布吕尔斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

R·莫尔斯 ;

G·斯温克尔斯 ;

W·梅斯特罗姆 .

中国专利 :CN102652286A ,2012-08-29

[25]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

M·克拉森 ;

R·格罗内维尔德 ;

A·斯卓克肯 ;

G·斯温克尔斯 .

中国专利 :CN102105836A ,2011-06-22

[26]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

V·Y·巴尼内 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN102119365A ,2011-07-06

[27]

导管系统、辐射源、光刻设备及其方法 [P].

T·D·斯泰格 .

美国专利 :CN120322923A ,2025-07-15

[28]

辐射收集器、辐射源以及光刻设备 [P].

I·范德瓦哈伦 ;

A·斯卓克肯 ;

J·弗兰肯 .

中国专利 :CN105122140A ,2015-12-02

[29]

辐射源设备和方法、光刻设备和检查设备 [P].

N·斯伯克 ;

P·C·M·普兰肯 .

中国专利 :CN110088682B ,2019-08-02

[30]

辐射源和用于光刻设备的方法和器件制造方法 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

J·迪吉克斯曼 .

中国专利 :CN103718654A ,2014-04-09

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