辐射源测试

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080076759.1

申请日：

2020-10-16

公开(公告)号：

CN114631061B

公开(公告)日：

2025-09-12

发明(设计)人：

R·A·布尔德特 T·P·达菲

申请人：

西默有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

赵林琳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-12	授权	授权

共 50 条

[1]

辐射源测试 [P].

R·A·布尔德特 ;

T·P·达菲 .

中国专利 :CN114631061A ,2022-06-14

[2]

B·詹森 ;

J·胡格坎普 .

中国专利 :CN103843463A ,2014-06-04

[3]

J·范斯库特 ;

A·凯姆鹏 ;

H·克鲁威尔 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN104488362A ,2015-04-01

[4]

A·亚库宁 ;

V·伊万诺夫 ;

J·范斯库特 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

V·梅德韦杰夫 .

中国专利 :CN103782662B ,2014-05-07

[5]

用于监测辐射源的装置、辐射源、监测辐射源的方法、器件制造方法 [P].

E·W·伯加特 ;

赵创新 .

中国专利 :CN107077073A ,2017-08-18

[6]

用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备 [P].

H-K·尼恩惠斯 .

中国专利 :CN105408817A ,2016-03-16

[7]

控制辐射源和包括辐射源的光刻设备的方法 [P].

W·奥普特鲁特 ;

A·博默 ;

R·德琼 ;

F·埃弗茨 ;

H·戈德弗雷德 ;

R·斯托尔克 ;

P·范德文 .

中国专利 :CN105229535B ,2016-01-06

[8]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[9]

辐射源和光刻设备 [P].

H·斯希梅尔 ;

J·迪吉克斯曼 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103765998A ,2014-04-30

[10]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

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