化学气相沉积室钝化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN99806388.6

申请日：

1999-04-14

公开(公告)号：

CN1319146A

公开(公告)日：

2001-10-24

发明(设计)人：

迈克尔·S·阿明约瑟夫·T·希尔曼格特·洛伊申克迈克尔·沃德图鲁尔·亚沙尔

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C1614 C23C1656 H01L21321

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

韩宏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-10-24	公开	公开
2001-10-31	实质审查的生效	实质审查的生效
2004-09-29	授权	授权
2019-05-07	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:19990414 授权公告日:20040929

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[2]

化学气相沉积室的清洁方法 [P].

朱亚丹 ;

周军 .

中国专利 :CN103352205A ,2013-10-16

[3]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[4]

化学气相沉积室的清洁 [P].

曹车正 ;

郑慧峰 ;

洪图 ;

伊凡·亚历山大·桑切斯 ;

季春海 ;

李明 .

美国专利 :CN120035689A ,2025-05-23

[5]

化学气相沉积设备 [P].

金宰湖 ;

朴相俊 .

中国专利 :CN1302152C ,2002-10-23

[6]

化学气相沉积装置 [P].

阿诺德·德雷胡泽 ;

雷米·皮埃尔·罗伯特·布维尔 ;

曼侬·费尔南德斯 .

法国专利 :CN118076765A ,2024-05-24

[7]

化学气相沉积设备 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN102108498B ,2011-06-29

[8]

化学气相沉积设备 [P].

赵仰政 .

中国专利 :CN306403676S ,2021-03-23

[9]

化学气相沉积方法 [P].

孙旭海 ;

刘满成 .

中国专利 :CN121204634A ,2025-12-26

[10]

化学气相沉积设备 [P].

金宰湖 ;

朴相俊 .

中国专利 :CN100540734C ,2006-10-18

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