具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710109894.8

申请日：

2007-06-05

公开(公告)号：

CN101085902A

公开(公告)日：

2007-12-12

发明(设计)人：

B·L·穆勒

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

沙永生

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-02-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-09-08	授权	授权
2014-07-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101584051944 IPC(主分类):C09G 1/02 专利号:ZL2007101098948 申请日:20070605 授权公告日:20100908 终止日期:20130605
2007-12-12	公开	公开

共 50 条

[1]

用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物 [P].

S·J·兰 ;

C·余 .

中国专利 :CN101054498A ,2007-10-17

[2]

化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法 [P].

S·J·莱恩 ;

A·S·拉文 ;

B·L·米勒 ;

C·于 .

中国专利 :CN1822325A ,2006-08-23

[3]

化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法 [P].

S·J·莱恩 ;

B·L·穆勒 ;

C·于 .

中国专利 :CN100350567C ,2006-02-01

[4]

用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法 [P].

B·L·米勒 ;

徐浩峰 .

中国专利 :CN1637100A ,2005-07-13

[5]

抛光二氧化硅多于氮化硅的化学机械抛光组合物和方法 [P].

N·K·彭塔 ;

R·L·奥格 .

中国专利 :CN110964440A ,2020-04-07

[6]

化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法 [P].

S·J·莱恩 ;

B·L·米勒 ;

C·余 .

中国专利 :CN1660923A ,2005-08-31

[7]

化学机械抛光组合物以及优先于二氧化硅抛光氮化硅并同时抑制对二氧化硅的损伤的方法 [P].

N·K·彭塔 ;

K·E·特泰 ;

M·范汉尼赫姆 .

中国专利 :CN111944428A ,2020-11-17

[8]

用于氧化硅、氮化硅、和多晶硅材料的化学机械抛光的组合物和方法 [P].

D.丹加 ;

K.莫根博格 ;

W.沃德 ;

D.马特加 .

中国专利 :CN105393337A ,2016-03-09

[9]

用于氧化硅、氮化硅、和多晶硅材料的化学机械抛光的组合物和方法 [P].

D.丹加 ;

K.莫根博格 ;

W.沃德 ;

D.马特加 .

中国专利 :CN110238705A ,2019-09-17

[10]

选择性化学机械抛光钴、氧化锆、多晶硅和二氧化硅膜的方法 [P].

M·G·伊瓦纳加姆 ;

M·R·范汉尼赫姆 ;

Y·郭 .

中国专利 :CN112490120A ,2021-03-12

← 1 2 3 4 5 →