光致抗蚀剂剥离剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510064727.7

申请日：

2005-04-18

公开(公告)号：

CN1690865B

公开(公告)日：

2005-11-02

发明(设计)人：

高岛正之

申请人：

申请人地址：

韩国全罗北道

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

G03F700 H01L21027

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

丁香兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-12-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-06-16	授权	授权
2005-11-02	公开	公开

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂剥离剂组合物 [P].

高岛正之 .

中国专利 :CN1677248A ,2005-10-05

[2]

光致抗蚀剂剥离剂及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

邓强 .

中国专利 :CN109254507A ,2019-01-22

[3]

光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

安江秀国 .

中国专利 :CN102124414A ,2011-07-13

[4]

光致抗蚀剂剥离剂 [P].

杨桂望 .

中国专利 :CN103529657A ,2014-01-22

[5]

光致抗蚀剂剥离剂 [P].

R·D·彼得斯 ;

曹远美 .

中国专利 :CN110376854A ,2019-10-25

[6]

光致抗蚀剂剥离剂 [P].

曹远美 ;

M·费尼斯 ;

R·D·彼得斯 .

中国专利 :CN110244526A ,2019-09-17

[7]

光致抗蚀剂剥离剂 [P].

R·D·彼得斯 ;

M·T·费尼斯 .

中国专利 :CN109960116B ,2019-07-02

[8]

光致抗蚀剂剥离剂组合物 [P].

金俸均 ;

朴弘植 ;

郑在祐 ;

金炳郁 ;

赵泰杓 ;

许舜范 ;

张斗瑛 ;

金东宽 .

中国专利 :CN106873319A ,2017-06-20

[9]

光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法 [P].

大和田拓央 ;

池上薰 .

中国专利 :CN1831654B ,2006-09-13

[10]

用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴珉春 ;

闵盛晙 ;

金璟晙 ;

韩熙 ;

高完熙 .

中国专利 :CN101750917A ,2010-06-23

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