光致抗蚀剂剥离剂组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510063722.2

申请日：

2005-03-30

公开(公告)号：

CN1677248A

公开(公告)日：

2005-10-05

发明(设计)人：

高岛正之

申请人：

申请人地址：

韩国全罗北道

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

丁香兰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-11-11	授权	授权
2005-11-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-10-05	公开	公开

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

安江秀国 .

中国专利 :CN102124414A ,2011-07-13

[2]

光致抗蚀剂剥离剂 [P].

高岛正之 .

中国专利 :CN1690865B ,2005-11-02

[3]

光致抗蚀剂剥离剂及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

邓强 .

中国专利 :CN109254507A ,2019-01-22

[4]

光致抗蚀剂剥离剂组合物 [P].

金俸均 ;

朴弘植 ;

郑在祐 ;

金炳郁 ;

赵泰杓 ;

许舜范 ;

张斗瑛 ;

金东宽 .

中国专利 :CN106873319A ,2017-06-20

[5]

光致抗蚀剂剥离剂组合物 [P].

山边崇史 ;

西嶋佳孝 ;

安江秀国 .

中国专利 :CN101681129A ,2010-03-24

[6]

正型光致抗蚀剂剥离剂组合物 [P].

尹锡壹 ;

金圣培 ;

郑宗铉 ;

朴熙珍 ;

辛成健 ;

张锡唱 ;

金玮溶 ;

许舜范 ;

金柄郁 .

中国专利 :CN101017333A ,2007-08-15

[7]

光致抗蚀剂剥离剂组合物、层积金属布线基板的光致抗蚀剂剥离方法和制造方法 [P].

安江秀国 .

中国专利 :CN102227687A ,2011-10-26

[8]

光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法 [P].

大和田拓央 ;

池上薰 .

中国专利 :CN1831654B ,2006-09-13

[9]

光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法 [P].

李赫镇 ;

金炳默 ;

宋仙英 ;

洪宪杓 .

中国专利 :CN1577111A ,2005-02-09

[10]

光致抗蚀剂剥离组合物 [P].

姜鑫 ;

S·W·金 .

中国专利 :CN114341744A ,2022-04-12

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