化学放大型正型光致抗蚀剂组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510098173.2

申请日：

2005-09-12

公开(公告)号：

CN1749857A

公开(公告)日：

2006-03-22

发明(设计)人：

馆俊聪宫城贤铃木贵子

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

G03F7004

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-05-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-09-12	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101452953875 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2005100981732 申请公布日:20060322
2006-03-22	公开	公开

共 50 条

[1]

化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 [P].

宫城贤 ;

馆俊聪 ;

丸山健治 ;

高木勇 .

中国专利 :CN1680875B ,2005-10-12

[2]

化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 [P].

宫城贤 ;

馆俊聪 ;

新仓聪 .

中国专利 :CN1690856A ,2005-11-02

[3]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

丸山健治 ;

栗原政树 ;

宫城贤 ;

新仓聪 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 ;

山口敏弘 ;

土井宏介 .

中国专利 :CN1698016A ,2005-11-16

[4]

形成厚膜用正型光致抗蚀剂组合物 [P].

三隅浩一 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN101142530B ,2008-03-12

[5]

化学放大正性光致抗蚀剂组合物 [P].

新田和行 ;

本池直人 .

中国专利 :CN1692314B ,2005-11-02

[6]

化学放大型正性抗蚀剂组合物 [P].

末次益实 ;

秋田诚 ;

桥本和彦 .

中国专利 :CN101192006A ,2008-06-04

[7]

正型光致抗蚀剂组合物 [P].

森尾公隆 ;

加藤哲也 .

中国专利 :CN1603955A ,2005-04-06

[8]

正型光致抗蚀剂组合物 [P].

鹿毛孝和 ;

今泉规史 .

中国专利 :CN103210349B ,2013-07-17

[9]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 [P].

中川裕介 ;

秀坂慎一 ;

丸山健治 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1701280A ,2005-11-23

[10]

化学放大型正性抗蚀剂组合物 [P].

末次益实 ;

山田爱理 ;

上谷保则 .

中国专利 :CN100342282C ,2003-04-02

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