化学放大正性光致抗蚀剂组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200380100580.1

申请日：

2003-10-27

公开(公告)号：

CN1692314B

公开(公告)日：

2005-11-02

发明(设计)人：

新田和行本池直人

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

范明娥;巫肖南

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-11-02	公开	公开
2011-08-31	授权	授权
2005-12-28	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学放大型正型光致抗蚀剂组合物 [P].

馆俊聪 ;

宫城贤 ;

铃木贵子 .

中国专利 :CN1749857A ,2006-03-22

[2]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 [P].

中川裕介 ;

秀坂慎一 ;

丸山健治 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1701280A ,2005-11-23

[3]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

丸山健治 ;

栗原政树 ;

宫城贤 ;

新仓聪 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 ;

山口敏弘 ;

土井宏介 .

中国专利 :CN1698016A ,2005-11-16

[4]

正性光致抗蚀剂组合物 [P].

文奉锡 ;

金孝精 ;

金珍坤 ;

柳漾泫 ;

金敃志 ;

郑美敬 ;

柳权壹 ;

郑乐七 ;

金先镐 .

中国专利 :CN101116036B ,2008-01-30

[5]

化学放大型负性光致抗蚀剂组合物 [P].

李昇勋 ;

李昇炫 ;

李秀珍 ;

崔映喆 .

中国专利 :CN109154776B ,2019-01-04

[6]

化学放大型正性抗蚀剂组合物 [P].

末次益实 ;

秋田诚 ;

桥本和彦 .

中国专利 :CN101192006A ,2008-06-04

[7]

新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备 [P].

郑学刚 .

中国专利 :CN119126491A ,2024-12-13

[8]

新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备 [P].

郑学刚 .

中国专利 :CN119126491B ,2025-08-05

[9]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及图案的形成方法 [P].

增永惠一 ;

田中启顺 ;

土门大将 ;

渡边聪 ;

大泽洋一 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN101923288B ,2010-12-22

[10]

化学放大型正性抗蚀剂组合物 [P].

藤裕介 ;

重松淳二 ;

宫川贵行 ;

安藤信雄 ;

武元一树 .

中国专利 :CN101566798A ,2009-10-28

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