新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备

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专利类型
发明
申请号
CN202310692140.9
申请日
2023-06-12
公开(公告)号
CN119126491B
公开(公告)日
2025-08-05
发明(设计)人
郑学刚
申请人
上海艾深斯科技有限公司
申请人地址
201600 上海市松江区佘山镇吉业路399号
IPC主分类号
G03F7/039
IPC分类号
G03F7/004
代理机构
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
杨立芳
法律状态
公开
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
[1]
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备 [P]. 
郑学刚 .
中国专利 :CN119126491A ,2024-12-13
[2]
新型化学增幅负性光致抗蚀剂组合物及其制备 [P]. 
郑学刚 .
中国专利 :CN119119648A ,2024-12-13
[3]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 [P]. 
宫城贤 ;
馆俊聪 ;
丸山健治 ;
高木勇 .
中国专利 :CN1680875B ,2005-10-12
[4]
化学增幅型光致抗蚀剂 [P]. 
工藤隆范 ;
杨帆 .
中国专利 :CN114730130A ,2022-07-08
[5]
化学增幅型光致抗蚀剂 [P]. 
工藤隆范 ;
杨帆 .
德国专利 :CN114730130B ,2025-04-18
[6]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 [P]. 
宫城贤 ;
馆俊聪 ;
新仓聪 .
中国专利 :CN1690856A ,2005-11-02
[7]
化学放大正性光致抗蚀剂组合物 [P]. 
新田和行 ;
本池直人 .
中国专利 :CN1692314B ,2005-11-02
[8]
化学增幅正性抗蚀剂组合物 [P]. 
嶋田雅彦 ;
桥本和彦 ;
山口训史 ;
金淳信 ;
高田佳幸 ;
平冈崇志 .
中国专利 :CN101644895A ,2010-02-10
[9]
化学增幅正性抗蚀剂组合物 [P]. 
嶋田雅彦 ;
桥本和彦 ;
重松淳二 ;
宫川贵行 ;
山本敏 .
中国专利 :CN101644894A ,2010-02-10
[10]
化学增幅正性抗蚀剂组合物 [P]. 
宫川贵行 ;
山本敏 ;
藤裕介 .
中国专利 :CN101770173A ,2010-07-07