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新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310692140.9
申请日
:
2023-06-12
公开(公告)号
:
CN119126491B
公开(公告)日
:
2025-08-05
发明(设计)人
:
郑学刚
申请人
:
上海艾深斯科技有限公司
申请人地址
:
201600 上海市松江区佘山镇吉业路399号
IPC主分类号
:
G03F7/039
IPC分类号
:
G03F7/004
代理机构
:
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
:
杨立芳
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-13
公开
公开
2025-08-05
授权
授权
2024-12-31
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/039申请日:20230612
共 50 条
[1]
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备
[P].
郑学刚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾深斯科技有限公司
上海艾深斯科技有限公司
郑学刚
.
中国专利
:CN119126491A
,2024-12-13
[2]
新型化学增幅负性光致抗蚀剂组合物及其制备
[P].
郑学刚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾深斯科技有限公司
上海艾深斯科技有限公司
郑学刚
.
中国专利
:CN119119648A
,2024-12-13
[3]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
[P].
宫城贤
论文数:
0
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0
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0
宫城贤
;
馆俊聪
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0
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0
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馆俊聪
;
丸山健治
论文数:
0
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0
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丸山健治
;
高木勇
论文数:
0
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0
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高木勇
.
中国专利
:CN1680875B
,2005-10-12
[4]
化学增幅型光致抗蚀剂
[P].
工藤隆范
论文数:
0
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0
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0
工藤隆范
;
杨帆
论文数:
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0
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0
杨帆
.
中国专利
:CN114730130A
,2022-07-08
[5]
化学增幅型光致抗蚀剂
[P].
工藤隆范
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
工藤隆范
;
杨帆
论文数:
0
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
杨帆
.
德国专利
:CN114730130B
,2025-04-18
[6]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
[P].
宫城贤
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宫城贤
;
馆俊聪
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馆俊聪
;
新仓聪
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新仓聪
.
中国专利
:CN1690856A
,2005-11-02
[7]
化学放大正性光致抗蚀剂组合物
[P].
新田和行
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新田和行
;
本池直人
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本池直人
.
中国专利
:CN1692314B
,2005-11-02
[8]
化学增幅正性抗蚀剂组合物
[P].
嶋田雅彦
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嶋田雅彦
;
桥本和彦
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桥本和彦
;
山口训史
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山口训史
;
金淳信
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金淳信
;
高田佳幸
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高田佳幸
;
平冈崇志
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平冈崇志
.
中国专利
:CN101644895A
,2010-02-10
[9]
化学增幅正性抗蚀剂组合物
[P].
嶋田雅彦
论文数:
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嶋田雅彦
;
桥本和彦
论文数:
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桥本和彦
;
重松淳二
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重松淳二
;
宫川贵行
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宫川贵行
;
山本敏
论文数:
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山本敏
.
中国专利
:CN101644894A
,2010-02-10
[10]
化学增幅正性抗蚀剂组合物
[P].
宫川贵行
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0
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宫川贵行
;
山本敏
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山本敏
;
藤裕介
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藤裕介
.
中国专利
:CN101770173A
,2010-07-07
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