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新型化学增幅负性光致抗蚀剂组合物及其制备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310692771.0
申请日
:
2023-06-12
公开(公告)号
:
CN119119648A
公开(公告)日
:
2024-12-13
发明(设计)人
:
郑学刚
申请人
:
上海艾深斯科技有限公司
申请人地址
:
201600 上海市松江区佘山镇吉业路399号
IPC主分类号
:
C08L25/18
IPC分类号
:
G03F7/038
代理机构
:
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
:
杨立芳
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-13
公开
公开
2024-12-31
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C08L 25/18申请日:20230612
共 50 条
[1]
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备
[P].
郑学刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海艾深斯科技有限公司
上海艾深斯科技有限公司
郑学刚
.
中国专利
:CN119126491B
,2025-08-05
[2]
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备
[P].
郑学刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海艾深斯科技有限公司
上海艾深斯科技有限公司
郑学刚
.
中国专利
:CN119126491A
,2024-12-13
[3]
化学增幅型光致抗蚀剂
[P].
工藤隆范
论文数:
0
引用数:
0
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0
工藤隆范
;
杨帆
论文数:
0
引用数:
0
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0
杨帆
.
中国专利
:CN114730130A
,2022-07-08
[4]
化学增幅型光致抗蚀剂
[P].
工藤隆范
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
工藤隆范
;
杨帆
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
杨帆
.
德国专利
:CN114730130B
,2025-04-18
[5]
化学增幅型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法
[P].
林敏映
论文数:
0
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0
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林敏映
;
金智慧
论文数:
0
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0
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金智慧
;
金容美
论文数:
0
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0
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0
金容美
.
中国专利
:CN110325915B
,2019-10-11
[6]
负性光致抗蚀剂组合物
[P].
G·帕夫洛夫斯基
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0
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0
G·帕夫洛夫斯基
;
陈春伟
论文数:
0
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0
陈春伟
;
J·奥伯兰德
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0
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J·奥伯兰德
;
R·普拉斯
论文数:
0
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0
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R·普拉斯
.
中国专利
:CN101410756B
,2009-04-15
[7]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
[P].
宫城贤
论文数:
0
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0
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宫城贤
;
馆俊聪
论文数:
0
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馆俊聪
;
丸山健治
论文数:
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丸山健治
;
高木勇
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高木勇
.
中国专利
:CN1680875B
,2005-10-12
[8]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
[P].
宫城贤
论文数:
0
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0
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宫城贤
;
馆俊聪
论文数:
0
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馆俊聪
;
新仓聪
论文数:
0
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0
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0
新仓聪
.
中国专利
:CN1690856A
,2005-11-02
[9]
负性光致抗蚀剂组合物
[P].
金玟秀
论文数:
0
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0
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金玟秀
;
李学俊
论文数:
0
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李学俊
;
朴赞硕
论文数:
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朴赞硕
.
中国专利
:CN1847981A
,2006-10-18
[10]
负性光致抗蚀剂组合物
[P].
广崎贵子
论文数:
0
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广崎贵子
;
新堀博
论文数:
0
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0
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新堀博
.
中国专利
:CN1788239A
,2006-06-14
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