新型化学增幅负性光致抗蚀剂组合物及其制备

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专利类型
发明
申请号
CN202310692771.0
申请日
2023-06-12
公开(公告)号
CN119119648A
公开(公告)日
2024-12-13
发明(设计)人
郑学刚
申请人
上海艾深斯科技有限公司
申请人地址
201600 上海市松江区佘山镇吉业路399号
IPC主分类号
C08L25/18
IPC分类号
G03F7/038
代理机构
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
杨立芳
法律状态
公开
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
[1]
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备 [P]. 
郑学刚 .
中国专利 :CN119126491B ,2025-08-05
[2]
新型化学增幅正性光致抗蚀剂组合物及其制备 [P]. 
郑学刚 .
中国专利 :CN119126491A ,2024-12-13
[3]
化学增幅型光致抗蚀剂 [P]. 
工藤隆范 ;
杨帆 .
中国专利 :CN114730130A ,2022-07-08
[4]
化学增幅型光致抗蚀剂 [P]. 
工藤隆范 ;
杨帆 .
德国专利 :CN114730130B ,2025-04-18
[5]
化学增幅型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法 [P]. 
林敏映 ;
金智慧 ;
金容美 .
中国专利 :CN110325915B ,2019-10-11
[6]
负性光致抗蚀剂组合物 [P]. 
G·帕夫洛夫斯基 ;
陈春伟 ;
J·奥伯兰德 ;
R·普拉斯 .
中国专利 :CN101410756B ,2009-04-15
[7]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 [P]. 
宫城贤 ;
馆俊聪 ;
丸山健治 ;
高木勇 .
中国专利 :CN1680875B ,2005-10-12
[8]
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物 [P]. 
宫城贤 ;
馆俊聪 ;
新仓聪 .
中国专利 :CN1690856A ,2005-11-02
[9]
负性光致抗蚀剂组合物 [P]. 
金玟秀 ;
李学俊 ;
朴赞硕 .
中国专利 :CN1847981A ,2006-10-18
[10]
负性光致抗蚀剂组合物 [P]. 
广崎贵子 ;
新堀博 .
中国专利 :CN1788239A ,2006-06-14