化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480000692.4

申请日：

2004-05-19

公开(公告)号：

CN1698016A

公开(公告)日：

2005-11-16

发明(设计)人：

丸山健治栗原政树宫城贤新仓聪嶋谷聪增岛正宏新田和行山口敏弘土井宏介

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

柳春琦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-11-16	公开	公开
2009-11-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2006-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 [P].

中川裕介 ;

秀坂慎一 ;

丸山健治 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1701280A ,2005-11-23

[2]

化学放大型正型光致抗蚀剂组合物 [P].

馆俊聪 ;

宫城贤 ;

铃木贵子 .

中国专利 :CN1749857A ,2006-03-22

[3]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及图案的形成方法 [P].

增永惠一 ;

田中启顺 ;

土门大将 ;

渡边聪 ;

大泽洋一 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN101923288B ,2010-12-22

[4]

化学放大型正性抗蚀剂组合物 [P].

末次益实 ;

山田爱理 ;

上谷保则 .

中国专利 :CN100342282C ,2003-04-02

[5]

化学放大正性光致抗蚀剂组合物 [P].

新田和行 ;

本池直人 .

中国专利 :CN1692314B ,2005-11-02

[6]

正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

森尾公隆 ;

青木知三郎 ;

加藤哲也 ;

中岛哲矢 .

中国专利 :CN1324401C ,2004-09-01

[7]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和使用它的图案形成方法 [P].

高市哲正 ;

河户俊二 ;

铃木理人 ;

明石一通 ;

片山朋英 .

中国专利 :CN109804311A ,2019-05-24

[8]

化学放大型正性抗蚀剂组合物 [P].

末次益实 ;

秋田诚 ;

桥本和彦 .

中国专利 :CN101192006A ,2008-06-04

[9]

正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形的形成方法 [P].

馆俊聪 ;

片野彰 ;

新仓聪 .

中国专利 :CN1278185C ,2004-01-21

[10]

化学放大型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法 [P].

市川幸司 ;

平冈崇志 .

中国专利 :CN101930178A ,2010-12-29

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