化学放大型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010212624.1

申请日：

2010-06-22

公开(公告)号：

CN101930178A

公开(公告)日：

2010-12-29

发明(设计)人：

市川幸司平冈崇志

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

G03F700 H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

朱丹

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101676093783 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2010102126241 申请公布日:20101229
2012-07-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101292709941 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2010102126241 申请日:20100622
2010-12-29	公开	公开

共 50 条

[1]

化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法 [P].

市川幸司 ;

杉原昌子 ;

藤裕介 .

中国专利 :CN101799629A ,2010-08-11

[2]

化学放大型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂层层叠体、光致抗蚀剂组合物的制造方法、光致抗蚀图案的制造方法以及连接端子的制造方法 [P].

鹫尾泰史 ;

斋藤宏二 .

中国专利 :CN1842741A ,2006-10-04

[3]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

丸山健治 ;

栗原政树 ;

宫城贤 ;

新仓聪 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 ;

山口敏弘 ;

土井宏介 .

中国专利 :CN1698016A ,2005-11-16

[4]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 [P].

中川裕介 ;

秀坂慎一 ;

丸山健治 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1701280A ,2005-11-23

[5]

化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法 [P].

R·A·迪佩托 ;

R·D·艾伦 ;

P·J·布罗克 ;

H·特鲁昂 .

中国专利 :CN106980235A ,2017-07-25

[6]

化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法 [P].

R·A·迪佩托 ;

R·D·艾伦 ;

P·J·布罗克 ;

H·特鲁昂 .

中国专利 :CN102472971A ,2012-05-23

[7]

光致抗蚀剂组合物和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P].

李光武 ;

陈津江 .

中国专利 :CN117608167A ,2024-02-27

[8]

正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和光致抗蚀剂图案的制造方法 [P].

林敏映 ;

李泰燮 ;

金智慧 .

中国专利 :CN109429511B ,2019-03-05

[9]

化学放大型正型光致抗蚀剂组合物 [P].

馆俊聪 ;

宫城贤 ;

铃木贵子 .

中国专利 :CN1749857A ,2006-03-22

[10]

化学放大型负性光致抗蚀剂组合物 [P].

李昇勋 ;

李昇炫 ;

李秀珍 ;

崔映喆 .

中国专利 :CN109154776B ,2019-01-04

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