化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010114105.1

申请日：

2010-02-04

公开(公告)号：

CN101799629A

公开(公告)日：

2010-08-11

发明(设计)人：

市川幸司杉原昌子藤裕介

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴小明

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-08-07	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101648871262 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2010101141051 申请公布日:20100811
2010-08-11	公开	公开
2012-02-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101188718702 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2010101141051 申请日:20100204

共 50 条

[1]

化学放大型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法 [P].

市川幸司 ;

平冈崇志 .

中国专利 :CN101930178A ,2010-12-29

[2]

光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法 [P].

市川幸司 ;

安立由香子 ;

藤田真吾 .

中国专利 :CN102749805A ,2012-10-24

[3]

盐、光致抗蚀剂组合物及用于制备光致抗蚀剂图案的方法 [P].

增山达郎 ;

向井优一 .

中国专利 :CN102816097A ,2012-12-12

[4]

盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法 [P].

增山达郎 ;

向井优一 .

中国专利 :CN102952053A ,2013-03-06

[5]

化学放大型抗蚀剂组合物 [P].

山口训史 ;

山本敏 ;

安藤信雄 .

中国专利 :CN101196687A ,2008-06-11

[6]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 [P].

中川裕介 ;

秀坂慎一 ;

丸山健治 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1701280A ,2005-11-23

[7]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

丸山健治 ;

栗原政树 ;

宫城贤 ;

新仓聪 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 ;

山口敏弘 ;

土井宏介 .

中国专利 :CN1698016A ,2005-11-16

[8]

化学放大型抗蚀剂组合物 [P].

高田佳幸 ;

宫川贵行 ;

枝松邦茂 .

中国专利 :CN101206405A ,2008-06-25

[9]

化学放大型抗蚀剂组合物 [P].

高田佳幸 ;

山本敏 ;

山口训史 .

中国专利 :CN101236357B ,2008-08-06

[10]

光致抗蚀剂组合物 [P].

市川幸司 ;

桥本和彦 ;

夏政焕 .

中国专利 :CN102053495A ,2011-05-11

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