化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和使用它的图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780062691.X

申请日：

2017-10-10

公开(公告)号：

CN109804311A

公开(公告)日：

2019-05-24

发明(设计)人：

高市哲正河户俊二铃木理人明石一通片山朋英

申请人：

申请人地址：

卢森堡国卢森堡市

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

G03F738 G03F740

代理机构：

北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216

代理人：

刘卓然

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-24	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/039 登记生效日:20230112 变更事项:申请人变更前权利人:AZ电子材料公司变更后权利人:默克专利有限公司变更事项:地址变更前权利人:德国达姆施塔特变更后权利人:德国达姆施塔特
2023-01-24	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/039 登记生效日:20230112 变更事项:申请人变更前权利人:睿智弗尤德收购公司变更后权利人:AZ电子材料有限公司变更事项:地址变更前权利人:卢森堡国卢森堡市变更后权利人:卢森堡(L-1648)纪尧姆二世广场46号
2023-01-24	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/039 登记生效日:20230112 变更事项:申请人变更前权利人:AZ电子材料有限公司变更后权利人:AZ电子材料公司变更事项:地址变更前权利人:卢森堡(L-1648)纪尧姆二世广场46号变更后权利人:德国达姆施塔特
2019-05-24	公开	公开
2019-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/039 申请日:20171010

共 50 条

[1]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

丸山健治 ;

栗原政树 ;

宫城贤 ;

新仓聪 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 ;

山口敏弘 ;

土井宏介 .

中国专利 :CN1698016A ,2005-11-16

[2]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法 [P].

中川裕介 ;

秀坂慎一 ;

丸山健治 ;

嶋谷聪 ;

增岛正宏 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1701280A ,2005-11-23

[3]

化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及图案的形成方法 [P].

增永惠一 ;

田中启顺 ;

土门大将 ;

渡边聪 ;

大泽洋一 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN101923288B ,2010-12-22

[4]

化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法 [P].

市川幸司 ;

杉原昌子 ;

藤裕介 .

中国专利 :CN101799629A ,2010-08-11

[5]

化学放大正性光致抗蚀剂组合物 [P].

新田和行 ;

本池直人 .

中国专利 :CN1692314B ,2005-11-02

[6]

正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法 [P].

久保敦子 ;

大内康秀 ;

宫城贤 .

中国专利 :CN1235090C ,2004-01-21

[7]

化学放大型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法 [P].

新堀博 .

中国专利 :CN1965265B ,2007-05-16

[8]

化学放大型正型光致抗蚀剂组合物 [P].

馆俊聪 ;

宫城贤 ;

铃木贵子 .

中国专利 :CN1749857A ,2006-03-22

[9]

化学放大正性抗蚀剂组合物和图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

田中启顺 ;

土门大将 .

中国专利 :CN102221783B ,2011-10-19

[10]

光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案的形成方法 [P].

平山拓 ;

藤村悟史 ;

远藤浩太朗 ;

石塚启太 .

中国专利 :CN1754125A ,2006-03-29

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