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抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780010236.5
申请日
:
2017-03-15
公开(公告)号
:
CN108700835B
公开(公告)日
:
2018-10-23
发明(设计)人
:
阿部信纪
佐藤信宽
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G03F738
IPC分类号
:
G03F7004
G03F7038
G03F720
G03F726
H01L21027
代理机构
:
北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413
代理人
:
邵秋雨;赵曦
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-11-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/38 申请日:20170315
2022-05-27
授权
授权
2018-10-23
公开
公开
共 50 条
[1]
抗蚀剂图案形成方法
[P].
佐藤信宽
论文数:
0
引用数:
0
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0
佐藤信宽
.
中国专利
:CN110383172A
,2019-10-25
[2]
抗蚀剂图案涂布剂和使用其的抗蚀剂图案形成方法
[P].
矢田勇二
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矢田勇二
;
庵野祐亮
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庵野祐亮
;
柿泽友洋
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柿泽友洋
;
堀雅史
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堀雅史
;
三田伦广
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三田伦广
;
若松刚史
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若松刚史
.
中国专利
:CN102187282A
,2011-09-14
[3]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
平野智之
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
平野智之
;
砂道智成
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
砂道智成
;
桥本阳奈
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
桥本阳奈
;
中川裕介
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
中川裕介
.
日本专利
:CN118401895A
,2024-07-26
[4]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
岩下勇介
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
岩下勇介
;
齐藤彩
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
齐藤彩
;
米村幸治
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
米村幸治
;
中川裕介
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
中川裕介
.
日本专利
:CN119654597A
,2025-03-18
[5]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
平野智之
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
平野智之
;
砂道智成
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
砂道智成
;
桥本阳奈
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
桥本阳奈
;
中川裕介
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
中川裕介
.
日本专利
:CN118451370A
,2024-08-06
[6]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
高木大地
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
高木大地
;
中村刚
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
中村刚
;
板垣友祐
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
板垣友祐
.
日本专利
:CN116745699B
,2024-03-22
[7]
抗蚀剂图案形成方法
[P].
河野绅一
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河野绅一
;
白木雄哲
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白木雄哲
;
大野庆晃
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大野庆晃
;
齐藤彩
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齐藤彩
;
砂道智成
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砂道智成
.
中国专利
:CN111542782A
,2020-08-14
[8]
抗蚀剂图案形成方法
[P].
菊地骏
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
菊地骏
;
草间理志
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
草间理志
;
大山皓介
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
大山皓介
;
大桥正树
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
大桥正树
.
日本专利
:CN120779666A
,2025-10-14
[9]
抗蚀剂图案形成方法
[P].
菊地骏
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
菊地骏
;
大山皓介
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
大山皓介
;
草间理志
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
草间理志
;
大桥正树
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
大桥正树
.
日本专利
:CN121115404A
,2025-12-12
[10]
抗蚀剂图案形成方法
[P].
菊地骏
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
菊地骏
;
草间理志
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
草间理志
;
大山皓介
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
大山皓介
;
大桥正树
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
大桥正树
.
日本专利
:CN120779665A
,2025-10-14
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