高分子电解质膜及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011143234.3

申请日：

2020-10-23

公开(公告)号：

CN113943451A

公开(公告)日：

2022-01-18

发明(设计)人：

郑圣国朴鈗显孙豪振康吉顺郑荣台

申请人：

申请人地址：

韩国首尔特别市钟路区紫霞门路77号榴南大厦(玉仁洞)

IPC主分类号：

C08L2306

IPC分类号：

C08L5302 C08L2316 C08J522 H01M81044 H01M81088

代理机构：

北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264

代理人：

刘俊;高珊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-18	公开	公开
2022-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08L 23/06 申请日:20201023

共 50 条

[1]

高分子电解质膜的制造方法及高分子电解质膜 [P].

野殿光纪 .

中国专利 :CN101589442A ,2009-11-25

[2]

高分子电解质膜的制造方法及高分子电解质膜 [P].

野殿光纪 .

中国专利 :CN101595537A ,2009-12-02

[3]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN105849958A ,2016-08-10

[4]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

田中轨人 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN105794031A ,2016-07-20

[5]

高分子电解质膜 [P].

岩原大 ;

川田武史 ;

金坂将 .

中国专利 :CN101965660A ,2011-02-02

[6]

高分子电解质膜 [P].

川田武史 ;

金坂将 ;

岩原大 .

中国专利 :CN101965659A ,2011-02-02

[7]

高分子电解质膜 [P].

俊成谦太 ;

井手彩矢佳 ;

山下竹友 ;

小野友裕 ;

须乡望 .

中国专利 :CN104584297A ,2015-04-29

[8]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN110233277A ,2019-09-13

[9]

高分子电解质膜的制造方法 [P].

佐佐井孝介 ;

山口裕树 ;

坂口佳充 ;

北村幸太 ;

山下全广 .

中国专利 :CN101641818B ,2010-02-03

[10]

高分子电解质膜的制造方法 [P].

足立真哉 ;

原真弓 ;

川上智教 ;

希代圣幸 .

中国专利 :CN102282709B ,2011-12-14

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