一种含有多孔结构的CMP抛光垫修整器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610451507.8

申请日：

2016-06-21

公开(公告)号：

CN106041741A

公开(公告)日：

2016-10-26

发明(设计)人：

康仁科董志刚段佳冬周平朱祥龙

申请人：

申请人地址：

116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号

IPC主分类号：

B24B5312

IPC分类号：

B24B53017

代理机构：

大连东方专利代理有限责任公司 21212

代理人：

赵淑梅;李洪福

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-04	授权	授权
2016-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101688769943 IPC(主分类):B24B 53/12 专利申请号:2016104515078 申请日:20160621
2016-10-26	公开	公开

共 50 条

[1]

一种CMP抛光垫修整器 [P].

董志刚 ;

康仁科 ;

段佳冬 ;

朱祥龙 ;

周平 .

中国专利 :CN106078516B ,2016-11-09

[2]

一种研磨抛光垫的修整器 [P].

张文杰 ;

谢庆丰 .

中国专利 :CN207757467U ,2018-08-24

[3]

CMP工艺抛光垫的修整装置 [P].

夏秋良 .

中国专利 :CN205363592U ,2016-07-06

[4]

CMP工艺抛光垫的修整装置 [P].

夏秋良 .

中国专利 :CN105500208A ,2016-04-20

[5]

一种研磨抛光垫的修整器及其修整方法 [P].

张文杰 ;

谢庆丰 .

中国专利 :CN108098590A ,2018-06-01

[6]

抛光垫修整头和具有该抛光垫修整头的抛光垫修整器 [P].

路新春 ;

沈攀 ;

何永勇 .

中国专利 :CN202479968U ,2012-10-10

[7]

一种CMP抛光垫修整器下压力控制系统 [P].

廖垂鑫 ;

柳滨 ;

陈威 .

中国专利 :CN201579701U ,2010-09-15

[8]

一种抛光垫修整器的制造设备 [P].

陈铨祥 .

中国专利 :CN206357063U ,2017-07-28

[9]

一种抛光垫修整器 [P].

徐剑波 ;

辛君 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN210524837U ,2020-05-15

[10]

一种抛光垫的修整器及修整方法 [P].

郭宇轩 ;

赵晟佑 .

中国专利 :CN110744450A ,2020-02-04

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