发明(设计)人:
朱普磊
陈枫
蒋莉
黎铭琦
曹均助
申请人地址:
201203 上海市浦东新区张江路18号
法律状态
| 2015-05-20 |
授权
| 授权 |
| 2013-05-08 |
公开
| 公开 |
共 50 条
[1]
制作半导体器件的方法
[P].
中国专利 :CN103094210B ,2013-05-08 [2]
半导体器件的制作方法
[P].
中国专利 :CN103165426B ,2013-06-19 [3]
半导体器件的制作方法
[P].
中国专利 :CN105336690A ,2016-02-17 [4]
半导体器件制作方法
[P].
中国专利 :CN102339790A ,2012-02-01 [5]
半导体器件制作方法
[P].
中国专利 :CN102339792A ,2012-02-01