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制作半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110333935.8
申请日
:
2011-10-28
公开(公告)号
:
CN103094210B
公开(公告)日
:
2013-05-08
发明(设计)人
:
蒋莉
黎铭琦
朱普磊
曹均助
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L218238
IPC分类号
:
H01L2102
代理机构
:
北京市磐华律师事务所 11336
代理人
:
董巍;顾珊
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-02-11
授权
授权
2013-06-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101468533930 IPC(主分类):H01L 21/8238 专利申请号:2011103339358 申请日:20111028
2013-05-08
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件的制作方法
[P].
朱普磊
论文数:
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0
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朱普磊
;
陈枫
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陈枫
;
蒋莉
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蒋莉
;
黎铭琦
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黎铭琦
;
曹均助
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曹均助
.
中国专利
:CN103094209A
,2013-05-08
[2]
半导体器件的制作方法
[P].
王新鹏
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王新鹏
.
中国专利
:CN103165426B
,2013-06-19
[3]
制作半导体器件的方法
[P].
蒋莉
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蒋莉
;
黎铭琦
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黎铭琦
;
朱普磊
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朱普磊
;
曹均助
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曹均助
.
中国专利
:CN103094082A
,2013-05-08
[4]
制作半导体器件的方法
[P].
洪中山
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洪中山
.
中国专利
:CN103177944B
,2013-06-26
[5]
制造半导体器件的方法
[P].
倪景华
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倪景华
;
李凤莲
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李凤莲
.
中国专利
:CN103094211B
,2013-05-08
[6]
一种制作半导体器件的方法
[P].
任红茹
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任红茹
;
何学缅
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何学缅
.
中国专利
:CN104576341A
,2015-04-29
[7]
半导体器件制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
;
戴韫青
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戴韫青
;
王剑
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王剑
.
中国专利
:CN102339790A
,2012-02-01
[8]
半导体器件制作方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
胡友存
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胡友存
;
戴韫青
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戴韫青
;
王剑
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王剑
.
中国专利
:CN102339792A
,2012-02-01
[9]
制作半导体器件的方法
[P].
张传宝
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张传宝
;
庄敏
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庄敏
;
唐建新
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唐建新
;
张斌
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张斌
.
中国专利
:CN102738062B
,2012-10-17
[10]
制作半导体器件的方法
[P].
齐野敢太
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齐野敢太
.
中国专利
:CN100454517C
,2006-08-16
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