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晶圆抛光垫

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010005399.8
申请日：
2020-01-03
公开(公告)号：
CN113070810A
公开(公告)日：
2021-07-06
发明(设计)人：
李文华 颜冠致 曾焕铨
申请人：
申请人地址：
中国台湾新竹市
IPC主分类号：
B24B3720
IPC分类号：
B24B3726
代理机构：
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139
代理人：
李林
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-07-23 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/20 申请日:20200103
2021-07-06 公开 公开
2022-09-27 发明专利申请公布后的视为撤回 发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B 37/20 申请公布日:20210706
共 50 条
[1]
一种晶圆抛光垫及晶圆抛光装置 [P]. 
李洪亮 ;
沈思情 ;
张俊宝 ;
陈猛 .
中国专利 :CN211193450U ,2020-08-07
[2]
抛光垫与晶圆抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578277A ,2024-09-03
[3]
抛光垫及晶圆抛光装置 [P]. 
柴万里 ;
王凯 ;
谢毓 .
中国专利 :CN120588104A ,2025-09-05
[4]
抛光垫及晶圆抛光装置 [P]. 
柴万里 ;
王凯 ;
谢毓 .
中国专利 :CN120588104B ,2025-10-10
[5]
抛光垫与晶圆抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578276A ,2024-09-03
[6]
抛光垫和晶圆的凹槽抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
上野敬 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578279A ,2024-09-03
[7]
抛光垫和晶圆的凹槽抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
上野敬 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578278A ,2024-09-03
[8]
晶圆清洁和抛光垫、晶圆清洁和抛光腔室及清洁和抛光晶圆的方法 [P]. 
杨青海 ;
高耀寰 ;
刘黄升 .
中国专利 :CN111251174A ,2020-06-09
[9]
晶圆抛光装置及晶圆抛光方法 [P]. 
杨玉凯 .
中国专利 :CN115431167A ,2022-12-06
[10]
一种晶圆片抛光垫 [P]. 
陈峰 ;
洪章源 .
中国专利 :CN214923290U ,2021-11-30
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