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晶圆清洁和抛光垫、晶圆清洁和抛光腔室及清洁和抛光晶圆的方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201911206812.0
申请日：
2019-11-29
公开(公告)号：
CN111251174A
公开(公告)日：
2020-06-09
发明(设计)人：
杨青海 高耀寰 刘黄升
申请人：
申请人地址：
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
IPC主分类号：
B24B3722
IPC分类号：
B24B3724 B24B3710 H01L2167
代理机构：
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人：
徐金国
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-07-03 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/22 申请日:20191129
2021-12-14 授权 授权
2020-06-09 公开 公开
共 50 条
[1]
抛光垫和晶圆的凹槽抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
上野敬 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578279A ,2024-09-03
[2]
抛光垫和晶圆的凹槽抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
上野敬 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578278A ,2024-09-03
[3]
晶圆抛光装置及晶圆抛光方法 [P]. 
杨玉凯 .
中国专利 :CN115431167A ,2022-12-06
[4]
晶圆抛光垫 [P]. 
李文华 ;
颜冠致 ;
曾焕铨 .
中国专利 :CN113070810A ,2021-07-06
[5]
抛光垫及晶圆抛光装置 [P]. 
柴万里 ;
王凯 ;
谢毓 .
中国专利 :CN120588104A ,2025-09-05
[6]
抛光垫及晶圆抛光装置 [P]. 
柴万里 ;
王凯 ;
谢毓 .
中国专利 :CN120588104B ,2025-10-10
[7]
抛光垫与晶圆抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578277A ,2024-09-03
[8]
一种晶圆抛光垫及晶圆抛光装置 [P]. 
李洪亮 ;
沈思情 ;
张俊宝 ;
陈猛 .
中国专利 :CN211193450U ,2020-08-07
[9]
抛光垫与晶圆抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578276A ,2024-09-03
[10]
晶圆抛光方法及抛光装置 [P]. 
川崎智宪 ;
寺川良也 .
中国专利 :CN108369906B ,2018-08-03
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