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一种内加热型氮化硼复合纤维化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011414040.2
申请日
:
2020-12-04
公开(公告)号
:
CN112553603A
公开(公告)日
:
2021-03-26
发明(设计)人
:
孔令杰
白晓航
申请人
:
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市高新区科学大道110号
IPC主分类号
:
C23C1654
IPC分类号
:
C23C1634
C23C1652
B65H1810
代理机构
:
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160
代理人
:
刘生昕
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-04-13
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/54 申请日:20201204
2021-03-26
公开
公开
共 50 条
[1]
一种氮化硼复合纤维的化学气相沉积设备
[P].
孔令杰
论文数:
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孔令杰
;
白晓航
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白晓航
.
中国专利
:CN112553602A
,2021-03-26
[2]
一种氮化硼气相沉积设备
[P].
胡祥龙
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胡祥龙
;
周岳兵
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周岳兵
;
戴煜
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戴煜
;
胡高健
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胡高健
;
王艳艳
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王艳艳
.
中国专利
:CN213925008U
,2021-08-10
[3]
氮化钛化学气相沉积设备
[P].
周军
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周军
.
中国专利
:CN103194730A
,2013-07-10
[4]
化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺
[P].
张铭霞
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张铭霞
;
王重海
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王重海
;
程之强
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程之强
;
徐鸿照
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徐鸿照
;
唐杰
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唐杰
;
李传山
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李传山
;
唐建新
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唐建新
;
黄健
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黄健
.
中国专利
:CN102619081B
,2012-08-01
[5]
一种化学气相沉积制备氮化硼薄膜的方法
[P].
姚运喜
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
姚运喜
;
陈均
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
陈均
;
冯博民
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
冯博民
;
焦健
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
焦健
;
杨金华
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
杨金华
;
杨轶飞
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
杨轶飞
;
郝亚伟
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
郝亚伟
.
中国专利
:CN116180225B
,2024-08-23
[6]
制备热解氮化硼制品用的化学气相沉积工艺及气相沉积炉
[P].
赵凤鸣
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赵凤鸣
;
赵林
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赵林
.
中国专利
:CN102021533A
,2011-04-20
[7]
一种加热灯和化学气相沉积设备
[P].
张海龙
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
张海龙
;
徐义
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
徐义
;
尹志尧
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
尹志尧
;
丛海
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
丛海
.
中国专利
:CN222313299U
,2025-01-07
[8]
用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备
[P].
麻鹏达
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
麻鹏达
;
薛运周
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
薛运周
;
鲁天豪
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
鲁天豪
.
中国专利
:CN117512572A
,2024-02-06
[9]
用于化学气相沉积设备的加热装置及化学气相沉积设备
[P].
李瑞
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机构:
中晟半导体(上海)有限公司
中晟半导体(上海)有限公司
李瑞
;
施广涛
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机构:
中晟半导体(上海)有限公司
中晟半导体(上海)有限公司
施广涛
;
万红
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机构:
中晟半导体(上海)有限公司
中晟半导体(上海)有限公司
万红
;
胡启凡
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机构:
中晟半导体(上海)有限公司
中晟半导体(上海)有限公司
胡启凡
.
中国专利
:CN119465068A
,2025-02-18
[10]
一种化学气相沉积设备
[P].
邓超
论文数:
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机构:
大连皓宇电子科技有限公司
大连皓宇电子科技有限公司
邓超
;
徐家庆
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0
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机构:
大连皓宇电子科技有限公司
大连皓宇电子科技有限公司
徐家庆
;
唐丽娜
论文数:
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0
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0
机构:
大连皓宇电子科技有限公司
大连皓宇电子科技有限公司
唐丽娜
.
中国专利
:CN222948466U
,2025-06-06
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