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一种氮化硼复合纤维的化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011412642.4
申请日
:
2020-12-04
公开(公告)号
:
CN112553602A
公开(公告)日
:
2021-03-26
发明(设计)人
:
孔令杰
白晓航
申请人
:
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市高新区科学大道110号
IPC主分类号
:
C23C1654
IPC分类号
:
C23C1634
C23C1652
代理机构
:
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160
代理人
:
刘生昕
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-26
公开
公开
2021-04-13
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/54 申请日:20201204
共 50 条
[1]
一种内加热型氮化硼复合纤维化学气相沉积设备
[P].
孔令杰
论文数:
0
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0
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孔令杰
;
白晓航
论文数:
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白晓航
.
中国专利
:CN112553603A
,2021-03-26
[2]
一种氮化硼气相沉积设备
[P].
胡祥龙
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胡祥龙
;
周岳兵
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周岳兵
;
戴煜
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戴煜
;
胡高健
论文数:
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胡高健
;
王艳艳
论文数:
0
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0
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0
王艳艳
.
中国专利
:CN213925008U
,2021-08-10
[3]
一种制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置
[P].
董国材
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董国材
;
张祥
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张祥
;
唐琪雯
论文数:
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唐琪雯
.
中国专利
:CN107099782A
,2017-08-29
[4]
化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺
[P].
张铭霞
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张铭霞
;
王重海
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王重海
;
程之强
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程之强
;
徐鸿照
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徐鸿照
;
唐杰
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唐杰
;
李传山
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李传山
;
唐建新
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唐建新
;
黄健
论文数:
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黄健
.
中国专利
:CN102619081B
,2012-08-01
[5]
氮化钛化学气相沉积设备
[P].
周军
论文数:
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周军
.
中国专利
:CN103194730A
,2013-07-10
[6]
一种化学气相沉积制备氮化硼薄膜的方法
[P].
姚运喜
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
姚运喜
;
陈均
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
陈均
;
冯博民
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
冯博民
;
焦健
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
焦健
;
杨金华
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
杨金华
;
杨轶飞
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
杨轶飞
;
郝亚伟
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机构:
中国工程物理研究院材料研究所
中国工程物理研究院材料研究所
郝亚伟
.
中国专利
:CN116180225B
,2024-08-23
[7]
制备热解氮化硼制品用的化学气相沉积工艺及气相沉积炉
[P].
赵凤鸣
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赵凤鸣
;
赵林
论文数:
0
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0
赵林
.
中国专利
:CN102021533A
,2011-04-20
[8]
一种化学气相沉积设备
[P].
杨闰清
论文数:
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
杨闰清
;
韩子迦
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
韩子迦
;
许灿
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
许灿
.
中国专利
:CN118256895A
,2024-06-28
[9]
一种化学气相沉积设备
[P].
丁伟
论文数:
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
丁伟
;
郭世平
论文数:
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
郭世平
;
姜勇
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
姜勇
;
郑振宇
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
郑振宇
;
谢振南
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
谢振南
;
郭泉泳
论文数:
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
郭泉泳
;
陈耀
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
陈耀
;
金文彬
论文数:
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
金文彬
.
中国专利
:CN120158723A
,2025-06-17
[10]
一种化学气相沉积喷头及化学气相沉积设备
[P].
方鹏
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
湖北星辰技术有限公司
湖北星辰技术有限公司
方鹏
.
中国专利
:CN223674737U
,2025-12-16
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