等离子体增强化学气相沉积用碳化硅陶瓷舟及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510975417.4

申请日：

2015-12-23

公开(公告)号：

CN105525277A

公开(公告)日：

2016-04-27

发明(设计)人：

杨万利代丽娜康文杰张永辉张旭辉彭志刚

申请人：

申请人地址：

710065 陕西省西安市高新区团结南路32号航天科技产业园2号楼306室

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

C23C1632 C04B35565 C04B3565

代理机构：

西安创知专利事务所 61213

代理人：

谭文琰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-04-27	公开	公开
2018-03-20	授权	授权
2016-05-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101662094489 IPC(主分类):C23C 16/458 专利申请号:2015109754174 申请日:20151223

共 50 条

[1]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

[2]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[3]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

张佳纯 .

中国专利 :CN107675144A ,2018-02-09

[4]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

刘传生 .

中国专利 :CN101974738A ,2011-02-16

[5]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

韦刚 .

中国专利 :CN101880867A ,2010-11-10

[6]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

吴斌 .

中国专利 :CN222935510U ,2025-06-03

[7]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

杜生平 ;

袁广才 .

中国专利 :CN205556778U ,2016-09-07

[8]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

洪性喆 ;

李万镐 .

中国专利 :CN104769156A ,2015-07-08

[9]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

何艾华 ;

朱太荣 ;

张武 .

中国专利 :CN119876915A ,2025-04-25

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

刘红义 .

中国专利 :CN102534568A ,2012-07-04

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