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半导体装置及其制造方法和安装方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN01135819.X
申请日
:
2001-10-19
公开(公告)号
:
CN1221028C
公开(公告)日
:
2002-05-22
发明(设计)人
:
境忠彦
大園滿
前田憲
申请人
:
申请人地址
:
日本国大阪府
IPC主分类号
:
H01L2312
IPC分类号
:
H01L2158
H01L2152
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司
代理人
:
沈昭坤
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-05
专利权的终止
专利权有效期届满 IPC(主分类):H01L 23/12 申请日:20011019 授权公告日:20050928
2005-09-28
授权
授权
2002-05-22
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体装置及其制造方法
[P].
内海胜喜
论文数:
0
引用数:
0
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内海胜喜
;
佐野光
论文数:
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佐野光
;
藤本博昭
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藤本博昭
;
富田佳宏
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富田佳宏
.
中国专利
:CN102132409A
,2011-07-20
[2]
半导体装置及其制造方法
[P].
藏本雅史
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藏本雅史
;
小川悟
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小川悟
;
丹羽实辉
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丹羽实辉
.
中国专利
:CN102292802A
,2011-12-21
[3]
半导体装置及其制造方法
[P].
本间庄一
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本间庄一
;
志摩真也
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志摩真也
;
高野勇佑
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高野勇佑
;
渡部武志
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渡部武志
;
涩谷克则
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涩谷克则
.
中国专利
:CN106373893B
,2017-02-01
[4]
半导体装置及其制造方法
[P].
藏本雅史
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藏本雅史
;
小川悟
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小川悟
;
丹羽实辉
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丹羽实辉
.
中国专利
:CN102292835B
,2011-12-21
[5]
半导体装置及其制造方法
[P].
川守崇司
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川守崇司
;
满仓一行
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满仓一行
;
增子崇
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增子崇
;
加藤木茂树
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加藤木茂树
.
中国专利
:CN102160163A
,2011-08-17
[6]
半导体装置和半导体装置的制造方法
[P].
小谷贵浩
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小谷贵浩
;
前田将克
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前田将克
.
中国专利
:CN103415923B
,2013-11-27
[7]
半导体装置和制造方法及其安装构造和安装方法
[P].
田口升
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田口升
;
户井田孝志
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户井田孝志
.
中国专利
:CN1288591A
,2001-03-21
[8]
半导体装置及其制造方法及制造装置
[P].
黑泽哲也
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黑泽哲也
;
田久真也
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田久真也
;
友野章
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友野章
.
中国专利
:CN102610566B
,2012-07-25
[9]
半导体元件及其制造方法、以及半导体装置及其制造方法
[P].
町田信夫
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町田信夫
.
中国专利
:CN114868231A
,2022-08-05
[10]
半导体装置及其制造方法以及半导体装置的安装结构
[P].
小坂幸广
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小坂幸广
;
中村嘉文
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中村嘉文
;
手谷道成
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手谷道成
.
中国专利
:CN101221932A
,2008-07-16
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