一种用于CMP抛光头的气路正压通路系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110002126.9

申请日：

2011-01-06

公开(公告)号：

CN102133732B

公开(公告)日：

2011-07-27

发明(设计)人：

张辉门延武王同庆路新春叶佩青

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区北京市100084-82信箱

IPC主分类号：

B24B3700

IPC分类号：

代理机构：

北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246

代理人：

朱琨

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/00 申请日:20110106 授权公告日:20130403 终止日期:20180106
2011-09-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101104511609 IPC(主分类):B24B 37/00 专利申请号:2011100021269 申请日:20110106
2011-07-27	公开	公开
2013-04-03	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于CMP抛光头的压力控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133729A ,2011-07-27

[2]

用于化学机械抛光的气路正压系统及化学机械抛光设备 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102205522A ,2011-10-05

[3]

一种用于CMP抛光头多区的气压控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133730B ,2011-07-27

[4]

一种用于CMP抛光头多腔室的压力控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133731B ,2011-07-27

[5]

一种用于CMP多腔室的气压控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133733B ,2012-10-10

[6]

用于CMP抛光头的基板进动机制 [P].

C·H·陈 ;

G·S·丹达瓦特 ;

J·古鲁萨米 ;

S·C-C·徐 .

中国专利 :CN105190845A ,2015-12-23

[7]

用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备 [P].

赵德文 .

中国专利 :CN112108990A ,2020-12-22

[8]

一种用于化学机械抛光的抛光头 [P].

熊世伟 .

中国专利 :CN203092329U ,2013-07-31

[9]

一种用于化学机械抛光的抛光头 [P].

刘威 ;

顾亚平 ;

魏向荣 .

中国专利 :CN203495741U ,2014-03-26

[10]

一种用于化学机械抛光的抛光头 [P].

黄仁东 .

中国专利 :CN207027220U ,2018-02-23

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