一种用于CMP抛光头的压力控制系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110002116.5

申请日：

2011-01-06

公开(公告)号：

CN102133729A

公开(公告)日：

2011-07-27

发明(设计)人：

张辉门延武王同庆路新春叶佩青

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区北京市100084-82信箱

IPC主分类号：

B24B3700

IPC分类号：

B24B5100

代理机构：

北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246

代理人：

朱琨

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-11-14	授权	授权
2011-09-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101104509747 IPC(主分类):B24B 37/00 专利申请号:2011100021165 申请日:20110106
2018-12-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/005 申请日:20110106 授权公告日:20121114 终止日期:20180106
2011-07-27	公开	公开

共 50 条

[1]

一种用于CMP抛光头多区的气压控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133730B ,2011-07-27

[2]

一种用于CMP多腔室的气压控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133733B ,2012-10-10

[3]

一种用于CMP抛光头多腔室的压力控制系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133731B ,2011-07-27

[4]

一种用于CMP抛光头的气路正压通路系统 [P].

张辉 ;

门延武 ;

王同庆 ;

路新春 ;

叶佩青 .

中国专利 :CN102133732B ,2011-07-27

[5]

玻璃抛光机的压力控制系统 [P].

吴梦颍 ;

王安 ;

王子奇 .

中国专利 :CN204108833U ,2015-01-21

[6]

一种CMP抛光垫修整器下压力控制系统 [P].

廖垂鑫 ;

柳滨 ;

陈威 .

中国专利 :CN201579701U ,2010-09-15

[7]

一种压力控制系统 [P].

任明元 ;

张稳焕 ;

梁春 ;

刘文平 .

中国专利 :CN205956094U ,2017-02-15

[8]

压力控制系统 [P].

孙岩 .

中国专利 :CN101140474A ,2008-03-12

[9]

一种新型压力控制系统 [P].

黄晓明 ;

张协胜 ;

陈泓志 .

中国专利 :CN207064388U ,2018-03-02

[10]

一种新型压力控制系统 [P].

黄晓明 ;

张协胜 ;

陈泓志 .

中国专利 :CN107327448A ,2017-11-07

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