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晶片结合装置和包括晶片结合装置的晶片结合系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810521429.3
申请日
:
2018-05-25
公开(公告)号
:
CN109103124A
公开(公告)日
:
2018-12-28
发明(设计)人
:
金兑泳
姜泌圭
金石镐
文光辰
李来寅
李镐珍
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
倪斌
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-12-28
公开
公开
2020-06-19
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180525
共 50 条
[1]
晶片结合系统及其结合与剥离的方法
[P].
迈克尔·布尔比纳
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迈克尔·布尔比纳
;
杰弗里·N·布雷默
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杰弗里·N·布雷默
;
埃里克·S·莫耶
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埃里克·S·莫耶
;
王圣
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王圣
;
克格雷·R·耶克尔
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克格雷·R·耶克尔
.
中国专利
:CN103403855B
,2013-11-20
[2]
通过晶片结合的电子与光学电路集成
[P].
P·哈特威尔
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P·哈特威尔
;
R·博索莱尔
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R·博索莱尔
;
R·S·威廉斯
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R·S·威廉斯
;
D·斯图尔特
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D·斯图尔特
.
中国专利
:CN101601136A
,2009-12-09
[3]
晶片卡紧装置和包括其的晶片测试设备
[P].
张仁奎
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张仁奎
;
金成龙
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金成龙
;
徐载亨
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徐载亨
;
苏县俊
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苏县俊
;
孙守镛
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孙守镛
.
中国专利
:CN110346609A
,2019-10-18
[4]
晶片传感器、包括其的晶片对准系统、和晶片对准方法
[P].
朴晶铉
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴晶铉
;
李旻璟
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李旻璟
;
朴商纶
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴商纶
;
高秉勋
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
高秉勋
.
韩国专利
:CN120341153A
,2025-07-18
[5]
结合系统和包括该结合系统的流体输送系统
[P].
马格努斯·埃肯斯
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马格努斯·埃肯斯
;
约翰·兰道夫·霍兰德
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约翰·兰道夫·霍兰德
;
斯蒂安·图恩斯特韦特·马格努松
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斯蒂安·图恩斯特韦特·马格努松
;
比约纳·丹尼尔森
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比约纳·丹尼尔森
.
中国专利
:CN111051193B
,2020-04-21
[6]
晶片吸附装置和晶片传送设备
[P].
吴超
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吴超
;
赵喜成
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赵喜成
;
龙三雄
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龙三雄
.
中国专利
:CN115527913A
,2022-12-27
[7]
晶片检查装置和晶片检查方法
[P].
土居昭
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土居昭
;
佐佐木实
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佐佐木实
;
长谷川正树
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长谷川正树
;
小川博纪
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小川博纪
;
尾方智彦
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尾方智彦
;
冈田祐子
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0
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冈田祐子
.
中国专利
:CN112119297A
,2020-12-22
[8]
在晶片结合间隙中形成的芯片冷却通道
[P].
P·哈特威尔
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P·哈特威尔
;
D·斯图尔特
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D·斯图尔特
.
中国专利
:CN101601132A
,2009-12-09
[9]
晶片定位方法和装置,晶片加工系统及晶片定位装置的晶片座旋转轴定位方法
[P].
福崎义树
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福崎义树
;
新宅朝之
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新宅朝之
.
中国专利
:CN1613145A
,2005-05-04
[10]
晶片传送单元和晶片传送系统
[P].
弗洛里安·埃恩
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弗洛里安·埃恩
;
马丁·内策尔
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马丁·内策尔
;
安德列亚斯·霍费尔
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安德列亚斯·霍费尔
;
埃利乔·贝拉里
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埃利乔·贝拉里
;
马尔科·阿波洛尼
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马尔科·阿波洛尼
;
托马斯·L·斯温
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托马斯·L·斯温
.
中国专利
:CN110577082A
,2019-12-17
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