螺旋形磁控管及磁控溅射设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410032274.9

申请日：

2014-01-23

公开(公告)号：

CN104810228A

公开(公告)日：

2015-07-29

发明(设计)人：

杨玉杰李强邱国庆白志民王厚工丁培军吕峰

申请人：

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

H01J2309

IPC分类号：

H01J2550 H01J3734

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

陈振

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-10	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101760364697 IPC(主分类):H01J 23/09 专利申请号:2014100322749 变更事项:申请人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
2017-10-13	授权	授权
2015-07-29	公开	公开
2015-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101622459042 IPC(主分类):H01J 23/09 专利申请号:2014100322749 申请日:20140123

共 50 条

[1]

磁控管及磁控溅射设备 [P].

耿波 ;

罗建恒 ;

王磊 ;

杨玉杰 ;

杨帆 ;

陈鑫 ;

寇旭亮 ;

王大男 ;

王厚工 .

中国专利 :CN210420141U ,2020-04-28

[2]

磁控管及磁控溅射系统 [P].

杨玉杰 ;

张禄禄 .

中国专利 :CN107447195B ,2017-12-08

[3]

磁控管及磁控溅射装置 [P].

朱廷 ;

董新宇 .

中国专利 :CN223660184U ,2025-12-12

[4]

一种磁控管及磁控溅射设备 [P].

宗令蓓 ;

耿波 .

中国专利 :CN103177916A ,2013-06-26

[5]

磁控溅射腔室、磁控溅射设备以及磁控管 [P].

杨玉杰 ;

张同文 .

中国专利 :CN108004516B ,2018-05-08

[6]

磁控管组件及磁控溅射设备 [P].

武学伟 .

中国专利 :CN106032569A ,2016-10-19

[7]

磁控管装置和磁控溅射设备 [P].

陈媛媛 ;

王磊 .

中国专利 :CN121109967A ,2025-12-12

[8]

磁控管组件及磁控溅射设备 [P].

刘菲菲 ;

王宽冒 .

中国专利 :CN107435134B ,2017-12-05

[9]

磁控管装置及磁控溅射设备 [P].

郭浩 ;

王厚工 ;

李冬冬 ;

佘清 ;

杨玉杰 ;

刘学滨 .

中国专利 :CN114774872A ,2022-07-22

[10]

磁控管装置及磁控溅射设备 [P].

李强 ;

王磊 .

中国专利 :CN115305454A ,2022-11-08

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