用于化学气相沉积单晶金刚石高速生长的等离子体聚集装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010857467.3

申请日：

2020-08-24

公开(公告)号：

CN111979579A

公开(公告)日：

2020-11-24

发明(设计)人：

朱嘉琦李一村代兵郝晓斌刘雪冬

申请人：

申请人地址：

150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

IPC主分类号：

C30B2904

IPC分类号：

C30B2500 C23C1627 C23C16511

代理机构：

哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213

代理人：

侯静

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-09	授权	授权
2020-11-24	公开	公开
2020-12-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/04 申请日:20200824

共 50 条

[1]

微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 [P].

于宗旭 .

中国专利 :CN206635410U ,2017-11-14

[2]

微波等离子体化学气相沉积法生长单晶金刚石用的沉积台 [P].

李成明 ;

赵云 ;

林亮珍 ;

安康 ;

郑宇亭 ;

黑立富 ;

刘金龙 ;

魏俊俊 ;

陈良贤 .

中国专利 :CN206828679U ,2018-01-02

[3]

微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 [P].

于宗旭 .

中国专利 :CN106835070A ,2017-06-13

[4]

微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置 [P].

丁海兵 ;

梁瑞 ;

吉忠浩 ;

陆登峰 .

中国专利 :CN118979242A ,2024-11-19

[5]

一种基于微波等离子体化学气相沉积的单晶金刚石基片台 [P].

李庆利 ;

甄西合 ;

徐悟生 ;

赵丽媛 ;

朱逢锐 ;

朱逢旭 ;

杨春晖 .

中国专利 :CN215856452U ,2022-02-18

[6]

微波等离子体化学气相沉积中一种可旋转生长金刚石的装置 [P].

王宏兴 ;

王艳丰 .

中国专利 :CN211284535U ,2020-08-18

[7]

一种微波等离子体化学气相沉积金刚石膜的装置 [P].

皮超杰 ;

夏震 ;

徐国龙 .

中国专利 :CN206529521U ,2017-09-29

[8]

微波等离子体化学气相沉积中一种可旋转生长金刚石的方法 [P].

王宏兴 ;

王艳丰 .

中国专利 :CN110938811A ,2020-03-31

[9]

微波等离子体化学气相沉积装置和合成金刚石的方法 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN108588819A ,2018-09-28

[10]

一种微波等离子体化学气相沉积金刚石粉的反应装置 [P].

丁佩 ;

杨鹏 ;

段向阳 ;

许坤 .

中国专利 :CN220907632U ,2024-05-07

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