一种电解铜箔用添加剂及制备双光电池用电解铜箔的生产工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610750366.X
申请日
2016-08-29
公开(公告)号
CN106350836B
公开(公告)日
2017-01-25
发明(设计)人
李应恩 樊斌锋 董景伟 牛晶晶 王建智 何铁帅 韩树华 王媛媛
申请人
申请人地址
472500 河南省三门峡市灵宝市黄河路131号
IPC主分类号
C25D104
IPC分类号
代理机构
郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104
代理人
时立新;周闯
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
一种电解铜箔用添加剂、电解铜箔生产工艺和电解铜箔 [P]. 
周启伦 ;
郑惠军 ;
朱各桂 ;
万新领 ;
黄国平 ;
邓烨 ;
杨孝坤 ;
高元亨 ;
吴燕林 .
中国专利 :CN102181889A ,2011-09-14
[2]
电解铜箔用添加剂及5微米双光锂电用电解铜箔生产工艺 [P]. 
王朋举 ;
明小强 ;
赵刘平 ;
仇阳阳 .
中国专利 :CN108823610A ,2018-11-16
[3]
一种超低轮廓电解铜箔用添加剂及制备电解铜箔的工艺 [P]. 
朱若林 ;
宋言 ;
林毅 .
中国专利 :CN111235605A ,2020-06-05
[4]
一种电解铜箔用添加剂及电解铜箔的生产工艺 [P]. 
何成群 ;
赵原森 ;
王建波 ;
张欣 ;
李继峰 ;
柴云 ;
王建智 ;
周赞雄 .
中国专利 :CN103276416A ,2013-09-04
[5]
一种超低轮廓电解铜箔用添加剂、电解液、电解铜箔制备工艺、电解铜箔及电解铜箔的应用 [P]. 
李远泰 ;
钟伟彬 ;
潘光华 ;
房文洁 ;
谢贤超 ;
林健 ;
魏福莹 .
中国专利 :CN119530905A ,2025-02-28
[6]
电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法 [P]. 
唐云志 ;
兰杰 ;
樊小伟 ;
孙桢 ;
谭育慧 .
中国专利 :CN113445081B ,2021-09-28
[7]
一种电解铜箔添加剂、电解铜箔及其制备方法 [P]. 
陈晨 ;
金承佑 ;
金钟权 ;
全德镐 .
中国专利 :CN118127577A ,2024-06-04
[8]
高抗拉电解铜箔用添加剂及制备高抗拉电解铜箔的工艺 [P]. 
朱若林 ;
宋言 ;
简志超 ;
彭永忠 .
中国专利 :CN111270273A ,2020-06-12
[9]
一种电解铜箔用添加剂、电解液及电解铜箔的制备方法 [P]. 
张艳卫 ;
王学江 ;
孙云飞 ;
王其伶 ;
刘铭 ;
张嵩岩 ;
徐媛亭 ;
陈萌 .
中国专利 :CN118910684A ,2024-11-08
[10]
一种电解铜箔用复合添加剂、电解铜箔的制备方法及该电解铜箔 [P]. 
丁瑜 ;
崔萍萍 ;
张珊珊 ;
林培楷 .
中国专利 :CN119243269A ,2025-01-03