用于化学气相沉积的自对中晶片承载系统

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN201630149552.9

申请日：

2016-04-28

公开(公告)号：

CN303988327S

公开(公告)日：

2016-12-28

发明(设计)人：

S·克里士南 A·I·古拉雷张正宏 E·马塞罗

申请人：

申请人地址：

美国纽约

IPC主分类号：

1599

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

贾金岩

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-28	授权	授权
2021-04-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止主分类号:15-99 申请日:20160428 授权公告日:20161228 终止日期:20200428

共 50 条

[1]

自对中晶片承载系统 [P].

S·克里士南 ;

A·I·古拉雷 ;

张正宏 ;

E·马塞罗 .

中国专利 :CN303997035S ,2017-01-04

[2]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[3]

用于化学气相沉积的自定心晶片载体系统 [P].

S·克里士南 ;

A·I·古拉雷 ;

张正宏 ;

E·马塞罗 .

中国专利 :CN106256929A ,2016-12-28

[4]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[5]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[6]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[7]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

[8]

化学气相沉积系统 [P].

钟瑞伦 ;

吴俊鹏 .

中国专利 :CN211522317U ,2020-09-18

[9]

化学气相沉积系统 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101760728B ,2010-06-30

[10]

化学气相沉积系统 [P].

赵嘉峰 ;

陈飞 ;

项辉 .

中国专利 :CN217895750U ,2022-11-25

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