用于化学气相沉积的自定心晶片载体系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610457472.9

申请日：

2016-06-22

公开(公告)号：

CN106256929A

公开(公告)日：

2016-12-28

发明(设计)人：

S·克里士南 A·I·古拉雷张正宏 E·马塞罗

申请人：

申请人地址：

美国纽约

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

C23C1646 H01L21683 H01L21687 H01L2168

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王初

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 16/458 申请公布日:20161228
2016-12-28	公开	公开
2018-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/458 申请日:20160622

共 50 条

[1]

用于化学气相沉积反应器的自定心晶片载体系统和单晶片基板载体 [P].

S·克里士南 ;

A·I·古拉雷 ;

张正宏 ;

E·马塞罗 .

中国专利 :CN206127420U ,2017-04-26

[2]

晶片载体及化学气相沉积装置 [P].

郭世平 ;

姜勇 ;

陶珩 ;

李可 ;

杜志游 .

中国专利 :CN207052589U ,2018-02-27

[3]

用于化学气相沉积系统的具有复合半径的晶片保持凹穴的晶片载体 [P].

桑迪普·克里希南 ;

卢卡斯·厄本 .

中国专利 :CN106030761A ,2016-10-12

[4]

化学气相沉积系统 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101760728B ,2010-06-30

[5]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[6]

用于化学气相沉积的自对中晶片承载系统 [P].

S·克里士南 ;

A·I·古拉雷 ;

张正宏 ;

E·马塞罗 .

中国专利 :CN303988327S ,2016-12-28

[7]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

代宇通 ;

姜勇 ;

郭世平 .

中国专利 :CN222139265U ,2024-12-10

[8]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

姜勇 ;

胡建正 ;

郭世平 .

中国专利 :CN120138611A ,2025-06-13

[9]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[10]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

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