用于化学气相沉积反应器的自定心晶片载体系统和单晶片基板载体

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620622524.9

申请日：

2016-06-22

公开(公告)号：

CN206127420U

公开(公告)日：

2017-04-26

发明(设计)人：

S·克里士南 A·I·古拉雷张正宏 E·马塞罗

申请人：

申请人地址：

美国纽约

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

C23C1646 H01L21683 H01L21687 H01L2168

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王初

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-26	授权	授权

共 50 条

[1]

用于化学气相沉积的自定心晶片载体系统 [P].

S·克里士南 ;

A·I·古拉雷 ;

张正宏 ;

E·马塞罗 .

中国专利 :CN106256929A ,2016-12-28

[2]

晶片载体及化学气相沉积装置 [P].

郭世平 ;

姜勇 ;

陶珩 ;

李可 ;

杜志游 .

中国专利 :CN207052589U ,2018-02-27

[3]

用于化学气相沉积系统的具有复合半径的晶片保持凹穴的晶片载体 [P].

桑迪普·克里希南 ;

卢卡斯·厄本 .

中国专利 :CN106030761A ,2016-10-12

[4]

一种用于化学气相沉积的反应器及其晶片托架 [P].

张中英 ;

韦大曼 ;

黄文嘉 ;

洪伟 .

中国专利 :CN207619524U ,2018-07-17

[5]

用于化学气相沉积反应器的方法和设备 [P].

何甘 ;

雷格·东克 ;

凯思德·索拉布吉 ;

罗杰·哈曼吉 ;

安德瑞斯·海吉杜斯 ;

美利莎·艾契尔 ;

哈利·艾华特 ;

斯图尔特·索南费尔特 .

中国专利 :CN102084460A ,2011-06-01

[6]

喷嘴设备和化学气相沉积反应器 [P].

M·雷克 .

中国专利 :CN202671651U ,2013-01-16

[7]

喷嘴设备和化学气相沉积反应器 [P].

M·雷克 .

中国专利 :CN102618850A ,2012-08-01

[8]

在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法 [P].

秦文军 .

中国专利 :CN104357807A ,2015-02-18

[9]

在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法 [P].

秦文军 .

中国专利 :CN102027156A ,2011-04-20

[10]

基板载体系统、运输设备和基板载体系统的用途 [P].

S·奥尔霍恩 ;

J·克劳斯 ;

R·库南兹 ;

M·迪默 ;

C·波斯卢兹尼 ;

R·西伯特 .

德国专利 :CN117904587A ,2024-04-19

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