蒸镀掩模装置的制造装置

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专利类型
实用新型
申请号
CN201821435543.6
申请日
2018-09-03
公开(公告)号
CN208815101U
公开(公告)日
2019-05-03
发明(设计)人
冈本英介
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
C23C1404
IPC分类号
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
黄纶伟;于英慧
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及蒸镀掩模的制造装置 [P]. 
成谷元嗣 .
中国专利 :CN110268090B ,2019-09-20
[2]
蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模制造装置 [P]. 
宫寺仁子 ;
二连木隆佳 ;
武田利彦 .
中国专利 :CN111088476A ,2020-05-01
[3]
蒸镀掩模装置的制造方法和蒸镀掩模装置的制造装置 [P]. 
冈本英介 .
中国专利 :CN113981367A ,2022-01-28
[4]
蒸镀掩模装置的制造方法和蒸镀掩模装置的制造装置 [P]. 
冈本英介 .
中国专利 :CN109423604B ,2019-03-05
[5]
蒸镀掩模的制造装置和蒸镀掩模的制造方法 [P]. 
木村辽太郎 .
日本专利 :CN116724150B ,2025-11-04
[6]
蒸镀掩模的制造方法及制造装置 [P]. 
崎尾进 .
中国专利 :CN109315043B ,2019-02-05
[7]
蒸镀掩模的制造方法及制造装置 [P]. 
山田哲行 .
中国专利 :CN113308667A ,2021-08-27
[8]
蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模制造装置、激光用掩模及有机半导体元件的制造方法 [P]. 
宫寺仁子 ;
二连木隆佳 ;
武田利彦 .
中国专利 :CN107109622A ,2017-08-29
[9]
掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置 [P]. 
迹部光朗 ;
四谷真一 .
中国专利 :CN1522098A ,2004-08-18
[10]
掩模保持机构、蒸镀装置以及电子器件的制造装置 [P]. 
江泽光晴 ;
宫崎圭介 .
中国专利 :CN112176281A ,2021-01-05