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蒸镀掩模的制造装置和蒸镀掩模的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202180085691.8
申请日：
2021-11-16
公开(公告)号：
CN116724150B
公开(公告)日：
2025-11-04
发明(设计)人：
木村辽太郎
申请人：
株式会社迈格诺皓特
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C23C14/04
IPC分类号：
C25D1/10
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
邸万杰;池兵
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-11-04 | 授权 | 授权 |
| 2025-08-01 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利申请权的转移IPC(主分类):C23C 14/04登记生效日:20250716变更事项:申请人变更前权利人:株式会社日本显示器变更后权利人:株式会社迈格诺皓特变更事项:国家或地区变更前权利人:日本变更后权利人:日本变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都 |