蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010081387.3

申请日：

2020-02-06

公开(公告)号：

CN111534788A

公开(公告)日：

2020-08-14

发明(设计)人：

青木大吾池永知加雄井上功

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1404

IPC分类号：

C23C1424 C23C1412

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

邓毅;黄纶伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-14	公开	公开
2021-04-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20200206

共 50 条

[1]

蒸镀掩模装置和掩模支承机构 [P].

青木大吾 ;

池永知加雄 ;

井上功 .

中国专利 :CN211713188U ,2020-10-20

[2]

蒸镀掩模的制造装置和蒸镀掩模的制造方法 [P].

木村辽太郎 .

日本专利 :CN116724150B ,2025-11-04

[3]

掩模支承装置以及成膜装置 [P].

冈泽昌毅 .

日本专利 :CN118792615A ,2024-10-18

[4]

成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法 [P].

工藤修二 ;

野口良 ;

齐藤雄二 ;

韩智华 .

中国专利 :CN108779550A ,2018-11-09

[5]

对准标记位置检测装置、蒸镀装置和电子器件的制造方法 [P].

谷和宪 ;

长沼义人 ;

内田亘 .

中国专利 :CN112962061A ,2021-06-15

[6]

载台支承装置、对准装置、成膜装置、掩模载置方法、成膜方法及电子器件的制造方法 [P].

铃木健太郎 ;

三泽启太 ;

佐藤精二 ;

永田哲也 .

中国专利 :CN115701649A ,2023-02-10

[7]

基板处理装置和处理方法、光掩模清洗方法和制造方法 [P].

宅岛克宏 .

中国专利 :CN109290230A ,2019-02-01

[8]

网板印刷用掩模的清洗装置及网板印刷机 [P].

坂上隆昭 ;

阿部成孝 ;

田中哲矢 .

中国专利 :CN101905565A ,2010-12-08

[9]

真空处理装置、基板和对位掩模的移动方法以及对位方法及成膜方法 [P].

加藤裕子 ;

菊池正志 ;

龟崎厚治 ;

冈山智彦 ;

下田圭介 .

中国专利 :CN102859031B ,2013-01-02

[10]

基板支承部件及具有基板支承部件的基板处理装置及方法 [P].

洪榕焄 ;

李康奭 ;

张素荣 ;

李贤俊 .

中国专利 :CN114078721A ,2022-02-22

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